[发明专利]二维非线性光学超晶格光学双稳器件及其制法

权利要求书

1、一种二维非线性光学超晶格光学双稳器件，其特征是用具有较大克尔效应系数的晶体，内部刻有体光栅结构，其光栅常数为入，λ为入射光波长，晶体的克尔系数↓、折射率调制参数(M₁、M₂、M₃、M₄)光栅厚度l，波矢K_v(K_v为介质中的波矢)在下述范围：M₁＝M₂＝10^-4，M₃＝M₄＝10^-5，α＝10^-4，K_v1＝10^-4晶体可以在钽酸锂、磷酸二氢钾(KH₂PO₄)、铌酸锂、钛酸钡、铌酸钡钠以及掺铁、钴的以上晶体中选择，还可以在ADP、(NH₄H₂PO₄)、LiTaO₃。等单晶体中选择。

2、根据权利要求1所述的方法，其特征是用深层同步X射线光刻技术、离子束蚀刻等方法，对于具有光折变性质的晶体又可用常规体全息光栅写入与热固定技术，本发明可用作光开关器件。

3、由权利要求2所述的方法，其特征是所述体全息光栅写入法用Ar离子激光束分成等光强三束光同时曝光后加入入射信号光观察衍射光随时间推移的变化，在其突变处实施热固定方法，即可制成光双稳器件。