[发明专利]一种轴密封装置无效
申请号: | 93116478.8 | 申请日: | 1993-08-25 |
公开(公告)号: | CN1045330C | 公开(公告)日: | 1999-09-29 |
发明(设计)人: | 有坪博文;布施敏彦 | 申请(专利权)人: | 日本皮拉工业株式会社 |
主分类号: | F16J15/16 | 分类号: | F16J15/16;F16J15/54 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 崔幼平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 密封 装置 | ||
1.一种轴密封装置,用于在一个密封壳体(15)和一个旋转轴(16)之间进行密封,该旋转轴(16)可绕一纵向上的轴线旋转并穿过所述密封壳体(15)伸入一密封流体区(A)和一大气区(B),
其特征在于,
所述轴密封装置包括在密封流体区(A)一侧的第一机械密封(11)和在大气区(B)的第二机械密封(21),该二机械密封的位置在旋转轴(16)的轴线方向上相互分隔开,从而靠在第一机械密封(11)和第二机械密封(21)之间形成的清洗流体区(C)将密封流体区(A)和大气区(B)隔离和密封,
机械密封(11,21)的每一个都包括一个第一密封环(12,22)和一个第二密封环(13,23),第二密封环(13,23)可在旋转轴(16)的轴线方向上滑动,其中:
第一机械密封(11)是一个接触式密封,位于密封流体区(A)和清洗流体区(C)之间,从而面对第二密封环(13)后端面的空间与密封流体区(A)连通,
第二机械密封(21)是一个非接触式密封,带有一个形成在密封环(22)密封端面上的产生动压力的沟槽(22a),该密封(21)位于清洗流体区(C)和大气区(B)之间,从而面对第二密封环(23)后端面的空间与清洗流体区(C)连通,以及
在清洗流体区(C)注入压力低于密封流体区(A)流体压力的无活性气体的清洗流体(G)。
2.一种如权利要求1所述的轴密封装置,其特征在于,机械密封(11,21)以位于大气区(B)一侧的第二密封环(13,23)相对于第一密封环(12,22)设置的状态,把第一密封环(12,22)安装并固定在转动轴(16)上,并把第二密封环(13,23)轴向可滑动地支持在密封壳体(15)上。
3.一种如权利要求1所述的轴密封装置,其特征在于,机械密封(11,21)以位于大气区(B)一侧的第一密封环(12,22)相对于第二密封环(13,23)设置的状态在密封壳体(15)上安装并固定第一密封环(12,22),并把第二密封环(13,23)可轴向滑动地支持在旋转轴(16)上。
4.一种如权利要求1所述的轴密封装置,其特征在于,第一机械密封(11)以位于大气区(B)一侧的第二密封环(13)相对而言对于第一密封环(12)设置的状态在旋转轴(16)上安装并固定第一密封环(12),并在密封壳体(15)上可轴向滑动地安装第二密封环(13),而第二机械密封(21)则以位于大气区(B)一侧的第一密封环(22)相对于第二密封环(23)设置的状态在密封壳体(15)上安装并固定第一密封环(22),并在旋转轴(16)上可轴向滑动地安装第二密封环(23)。
5.一种如权利要求1所述的轴密封装置,其特征在于,第一机械密封(11)以位于大气区(B)一侧的第一密封环(12)相对于第二密封环(13)设置的状态在密封壳体(15)上安装固定第一密封环(12),并在旋转轴(16)上轴向可移动地安装着第二密封环(13),而第二机械密封(21)则以位于大气区(B)一侧的第二密封环(23)相对于第一密封环(22)设置的状态在旋转轴(16)上安装并固定第一密封环(22),并在壳体(15)上可轴向滑动地安装第二密封环(23)。
6.一种如权利要求1至5中任何一项所述的轴密封装置,其特征在于,清洗气体(G)和密封流体的压力差是0.5-10kg/cm2。
7.一种如权利要求1至5中任何一项所述的轴密封装置,其特征在于,清洗气体(G)和密封流体的压力差是5kg/cm2。
8.一种如权利要求1至5中任何一项所述的轴密封装置,其特征在于,把冲洗液(F)注入到第一机械密封(11)的密封环(12,13)的接触部分中。
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