[发明专利]用于显示装置的防反射涂层的制造方法无效

专利信息
申请号: 93120839.4 申请日: 1993-12-15
公开(公告)号: CN1047259C 公开(公告)日: 1999-12-08
发明(设计)人: 徐康一;张东植;金宪秀;郑秀玟 申请(专利权)人: 三星电管株式会社
主分类号: H01J9/20 分类号: H01J9/20;H01J29/88;B05D5/06;B05D1/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王以平
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 显示装置 反射 涂层 制造 方法
【说明书】:

本发明涉及一种用于在图象显示装置的外表面上制造具有防反射特性的多层涂层的方法,所述图象显示装置如阴极射线管(CRT),液晶显示器(LCD),等等。

用于诸如CRT或LCD之类的图象显示装置的显示屏的透明面板是由玻璃或塑料制成的,它强烈地反射外部光线,使得难以观看其上形成的图象。尤其是,当由各种CRT构成的显示装置用于计算机系统的终端时,这种防反射特性更为重要。

为防止显示面板的表面反射外部光线,可用诸如氟硅酸(H2SiF6)之类的化学试剂或用喷砂工艺蚀刻面板的玻璃表面而形成微细不平整,从而使之具备防眩特性。然而,这些方法的缺点在于,这种化学处理形成的微细不平整是脆弱的,因此容易被压碎,并且对显示屏的直接损坏使其不可能再生。

近些年,已采用含Si(OR)4的醇(alcohol)溶液喷涂面板的外表面来形成大量微细奇点(不平整度)。日本专利公开昭61-118932公开了一种具有抗静电和防眩涂层的阴极射线管,其中将含Si(OR)4的醇溶液喷涂于面板外表面,并在150℃或更低的温度下加热,从而形成带有硅烷醇基的SiO2薄膜。由于加热温度较低,一些硅烷基保持硅氧烷结构,而-OH基的收湿性使此薄膜具有抗静电特性。该方法的优越性在于,涂层容易制备并可以再生,但是该方法具有析象度低的问题。

日本专利公开昭64-76001公开了一种防眩涂层,此涂层是这样制备的:在玻璃表面上喷涂Si(OR)4的醇溶液,此溶液中含有弥散于其中平均颗粒尺寸为0.01-1μm的MgF2颗粒;加热所形成的涂层,以便形成一层SiO2薄膜,此薄膜使细小的MgF2颗粒固位,并在面板表面上形成大量凸出点。

美国专利4,949,282公开了一种制造图象显示面板的方法,该方法包括下列步骤:将直径为100-10000A的细小SiO2颗粒分散于Si(OR)醇溶液中,并分散导电的金属氧化物和/或收湿性金属盐的颗粒;将所形成的悬浮液涂敷于面板表面;加热所形成的涂层,以使Si(OR)4分解;从而形成一层SiO2薄膜,此薄膜覆盖细小的SiO2颗粒和所添加的颗粒,以便将它们固位于面板表面上。图1A示出了在面板(1)的外表面上形成的具有防眩功能的抗静电涂层放大的剖面图。由于SiO2颗粒(3)的存在,SiO2薄膜(2)具有防眩功能和抗静电功能。但是,按照在面板外表面上喷涂含有细小颗粒的Si(OR)4醇悬浮液并使这些颗粒固位的方法,由于细小颗粒导致的扩散效应会使析象度降低。

通常,防反射涂层需要两层以上,典型的为四层,以便获得具有低反射率的较宽波长范围。按照喷涂Si(OR)4的醇溶液的方法,在靠近玻璃面板表面的边缘时,所喷涂的液态颗粒淀积得较厚,因此,难以在整个玻璃表面上获得均匀的涂层。这种涂层不均匀的问题随涂敷层数的增加变得更严重,所以采用喷涂方法制备多层涂层是困难的。

最近,真空淀积,溅射或CVD(化学汽相淀积)方法也被用于在面板的外表面上形成多层导电金属,以便提供抗静电和防反射特性。图1B是一个多淀积层的实例的放大剖面图,其中包括MgF2层(4a,4b)和TiO2+Pr6O11层(5a,5b)。这些层是通过交替淀积给定折射系数(n1=1.38)的MgF2和给定折射系数(n2=2.06)的TiO2+Pr6O11形成的。这种多淀积层具有反射率低(低于0.1)的优点。但这些方法也存在明显的问题。即,这些方法需要大型设备,并且,为制造大尺寸的显象管需要许多操作步骤和高的生产成本。

本发明的目的是要克服普通的抗静电和防眩涂层的上述缺点,提供一种制造用于显示装置的防反射涂层的方法,此涂层在一个宽的波长范围内具有低反射率,并且不是采用昂贵的淀积方法,而是通过简单低耗的工艺制备的。

根据本发明,所提供的制备防反射涂层的方法包括下列步骤:

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