[发明专利]掺钕、铽和铈的钇铝石榴石激光晶体及其制备技术

权利要求书

1、一种掺钕、铽和铈的钇铝石榴石[(Nd，Tb，Ce)：YAG]激光晶体，其特征在于它是由Nd，Tb，Ce，T，Al和O等元素组成，化学式为Y_3-a-b-cNd_aNb_cCe_cAl₅O₁₂，其中a=1.0×10^-4～7.5×10^-2，b=1.0×10^-4，c=大于0～4.5×10^-2，该晶体属立方晶系，空间群O¹⁰_h-Ia3d，晶格常数为12.013，但随a，b和c的值而稍有改变。

2、根据权利要求1的晶体，其特征在于化学式Y_3-a-b-cNd_aTb_bCe_cAl₅O₁₂中的a＝1.2×10^-2～6.0×10^-2，b＝1.2×10^-3～6.0×10^-2，c＝大于0～3.0×10^-3。

3、一种（Nd，Tb，Ce）：YAG晶体的制备方法，包括晶体的生长、后处理和光学加工;其特征在于采用电阻或感应加热的引上生长，其中包括粉料的灼烧、按化学式Y_3-x-y-zNd_xTb_yCe_zAl₅O₁₂配料，其中x＝5×10^-4～0.375，y＝1.1×10^-4～1.5，z＝大于0～0.36，配制的粉料经研磨，混合和预压成形后置于坩锅中加热至熔，下籽晶进行旋转引上生长;其主要生长条件是：晶体转速为8～150r/min;提拉速度为0.3～2.5mm/h;保护气氛为还原性或中性气氛;籽晶可为任何方向，但优先选用<111>、<110>或<211>方向;晶体等径部分的直径与坩锅内直径的比小于1/2。

4、根据权利要求3所述方法，其特征在于采用石墨电阻加热;坩锅用钼或钨坩锅;晶体转速调到适于以凸界面生长;提拉速度为0.5～1.4mm/min。

5、根据权利要求3和4所述方法，其特征在于晶体转速调到适于平界面生长;提拉速度为0.8～2.2mm/min。

6、根据权利要求3所述方法，其特征在于采用感应加热和铱坩锅;晶体转速调到适于凸界面生长，提拉速度为0.3～1.3mm/h。

7、根据权利要求3和6所述方法，其特征在于晶体转速调到适于平界面生长;提拉速度为0.7～2.0mm/h。

8、根据权利要求4所述方法，其特征在于采用钨电阻加热。

9、根据权利要求5所述方法，其特征在于采用钨电阻加热。

10、一种激光器，包括泵浦光源、聚光腔、全反镜、输出镜和电源，其特征在于其激光工作物质是权利要求1或2所述的晶体制成的器件。