[实用新型]足部按摩温控浴盆无效
申请号: | 93213259.6 | 申请日: | 1993-05-24 |
公开(公告)号: | CN2174141Y | 公开(公告)日: | 1994-08-17 |
发明(设计)人: | 何凯云 | 申请(专利权)人: | 何凯云 |
主分类号: | A47K3/022 | 分类号: | A47K3/022 |
代理公司: | 小松专利事务所 | 代理人: | 张冰颖 |
地址: | 102205 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 足部按摩 温控 浴盆 | ||
本实用新型涉及到一种保健用品--足部按摩温控浴盆。
目前市场上出售有足部按摩器,它只能是对足底部进行常温按摩,不能使足部在温控情况下进行按摩和药疗。
本实用新型的目的在于提供一种足部在温控情况下进行按摩、磁疗或药疗的足部按摩温控浴盆。
本实用新型的目的通过以下设计方案来完成,浴盆1卡套在加温盆2内,浴盆内底部装两排按摩棒3,足浴完毕,倒水时,将按摩棒取下再倒,浴盆1底部制成安装按摩棒的凹槽4和灌水管5,从灌水管向加温盆灌水,加温盆2底部侧面凹部装温度调节旋扭6、电加热器7,按摩棒3上有4排按摩齿8,相邻排的按摩齿互相错形,每排有按摩齿5个或6个,温控器采用双属感应式温度继电器9,或其他温控元件,将浴足液先控制在40℃~50℃,然后升至60℃~70℃,保持15~30分钟。如若对足部进行药疗,向盆中浴足液中加入所需药物。
下面对附图进行说明
图1恒温按摩足浴盆结构图
图2图1的A向视图
图3图2的俯视图
图4图3的B-B剖视图
图5按摩棒结构图
图6图5的右视图
图7电路图
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