[实用新型]气体激光印章雕刻机

说明书

本实用新型涉及激光技术在印章雕刻领域中的应用。

自古以来，印章就不仅是群体的权力象征，也是个人的独特信物。就其雕刻工艺的漫长发展过程来看，有两次较大的变革：第一次变革是从个体手工雕刻发展为机械化制作或模压生产，它将印章雕刻由个人操作推向了集体化、产业化；第二次变革是八十年代原子印章制作技术的出现，它使得印章雕刻走向了规范化和社会化，这是一次重要的工艺变革。

但是，原子印章的制作仍需要庞大的成套设备，众多的操作人员，复杂的工艺流程，较高的技术要求和生产成本，而且还存在废液排放、污染环境等问题。电脑原子印章制作系统的出现，虽然解决了原子印章制作时菲林（FILM）制作的工艺问题，简化了部分工序，但是现行工艺存在的问题仍然没有得到根本性解决。

激光雕刻技术的出现，给印章雕刻业带来了第三次重大的技术变革，它是集激光技术、计算机技术、数控技术于一体，并与印章雕刻生产实际相结合的产物。YAG激光雕刻机的出现是这种技术的象征，它跨越了原子制作中的繁琐加工工序，从设计到制作，一步完成，大大缩短了印章的制作周期，降低了生产成本，提高了印章制作的效率和质量。

CO₂激光印章雕刻机是在YAG激光雕刻机的基础上，经过不断改进而开发的新技术，改进的主要表现在于所使用的激光雕刻光源的不同。

本实用新型的目的是：采用连续CO₂激光器替代脉冲YAG固体激光器，且与光学系统和导轨一同安装在工作台上成为一体。

本实用新型的任务是通过以下技术方案完成的。CO₂激光器1与光学系统的全反射镜2、3、4和透镜5及XY坐标系统的导轨8、9一同安装在工作台7上构成一整机。全反射镜3固定在导轨9的一端，该端在固定导轨8的滑槽内动配合，全反射镜4与导轨9相连接，且可沿导轨9移动。

以下结合附图详细说明本实用新型的技术内容：

图1是本实用新型的结构原理示意图。

从图1的配置来看，CO₂激光器1、光学系统及X－Y导轨8、9及工作台7上是组合成一体的。CO₂激光器1用来产生高功率密度的激光光束，其波长为10.6um；光学系统由全反射镜2、3、4与透镜5组成，用来实现激光束从激光光源到印章材料表面的光束传输和聚焦；X－Y导轨8、9及工作台7用来实现激光束在印章材料雕刻表面的二维移动。

本实用新型所产生的积极效果是：

1.整机成本降低，结构更加紧凑；

2.CO₂激光光束的高质量，使印章制作质量进一步提高；

3.CO₂激光器的高效率，使整机的耗能降低；

4.CO₂激光器采用封离式结构，两个谐振腔与激光管在制作时就封装在一起，而不像YAG激光器，两个谐振腔与工作物质棒分离，因此，CO₂激光印章雕刻机不存在YAG激光雕刻机在使用时激光腔的精密调节问题，从而大大简化了激光印章雕刻机的操作，同时减少了配套调光仪器。

以下结合附图列举最佳实施例：

图1是本实用新型的最佳实施图。

见图1，气体激光印章雕刻机，是采用CO₂激光器1作激光雕刻光源，用微机直接输入各种字符或借助于光电扫描仪进行各种图案、手写体文字的输入；印章制作排版软件用来设计各种标准和非标准的公、私章，并配有简，繁各种字体的汉字库，字体和字号的大小可任意选择。微机通过发生指令信号，控制CO₂激光器1发生激光束，该激光束经全反射镜2、3、4及凸透镜5组成的光学系统，聚焦于印章材料的表面，同时微机控制全反射镜3和4的移动，使激光束在X和Y两方向作组合运动，通过激光与印章材料6的特殊相互作用（化学效应、刻蚀效应、汽化效应等）就可以在印章材料6上刻出所需要的印章。

其中印章材料6置于工作台7的表面上，全反射镜3固定在导轨9的一端，全反射镜4与导轨9相连接并沿导轨9移动，导轨8与导轨9相互垂直，微机发出的控制指令，控制全反射镜3与导轨9一起沿导轨8在X方向运动，全反射镜4沿导轨9在Y方向移动。