[发明专利]给公用工程区的公用工程站供气的方法和设备

说明书

本发明涉及一种给在公用工程区的第一建筑物中的至少一个公用工程站提供至少一种纯活性气体的方法，特别是提供在工业中用于生产电子元件、液晶显示器（LCD）或光电池的所谓的“特殊气体”。

通常，用于电子学的特殊活性气体，即特殊气体是有危险性的气体，这是由于它们的毒性和/或易燃性。对于所述的应用来说，它们必须有高的纯度，也就是说没有污染性杂质。对于不认为是活性的气体，通常是中性的气体也是这样，这些气体用作控制纯活性气体数量的媒介气体，或用作公用工程站或有关的设备的清洗气体。活性气体有很宽的范围，特别是包括硅烷、二莰烷、胂、膦、氨、有腐蚀性的试剂（特别是酸氟化物和氯化物），而媒介气体或清洗气体特别是包括氮、氢和氦。

目前，特殊气体以高压纯气体或与纯媒介气体的混合气的形式提供，它们装在不同尺寸的经特殊处理的瓶中，有不同的高压。这些气瓶现在放在公用工程站建筑物的气舱中，以避免高纯度的特殊气体在更换气瓶时被污染，该气舱装有安全系统和清洗系统。这些现有的系统有很多缺点。例如，这些气瓶有限的尺寸要求经常更换特殊气体的气舱。除了与这些气瓶有关的更换和处理问题外，它还要求用户在建筑物附近提供放置灌有气体的气瓶以及待返回供气商的空气瓶的贮气区。象特殊气体的气舱一样，它在公用工程站占有很大的空间，特别是公用工程站通常有大量装有各种特殊纯气体或混合气。另一方面，这些装有高压气体（可高达150×10⁵帕）的气瓶，特殊气体气舱除有分配功能外还必须有减压设备，用来使这些气体产生公用工程站可使用的低压，通常为约4～5×10⁵帕或更低。最后，这些气瓶的经常更换要求经常对气体质量（纯度和/或混合速率）进行检测，它随不同气瓶组、这些气瓶的内部状况以及阀门状况而变化。

本发明的目的是提供一种可克服上述大多数缺点並为用户提供更高的使用灵活性和安全性的供气方法。

为此，根据本发明的一个特征，该法包括以下步骤：在公用工程区内离开第一建筑物一段距离建第二建筑物;在第二建筑物内至少提供一种活性气体的气源;通过至少一条高清洁度的管线将低压气体（通常小于5×10⁵帕）输送到公用工程站。

根据本发明的另一特征是：

-气体在送入管线前在第二建筑物内净化;

-制备纯气体，如果需要在第二建筑物内就地净化的话，气体的纯度和/或它与媒介气体的混合速率也在第二建筑物内进行分析。

应认识到，根据本发明的方法能克服上述的由于更换气瓶产生的问题，特别是气体处理的问题，在特殊气体气舱中更换这些气瓶时常常会损坏这些气瓶以及有污染的危险;该方法还能降低用户的操作费用以及避免高压气瓶发生事故的危险。

本发明也提供一种为实现这一方法的供气设备，该设备包括在公用工程站内离开第一建筑物一段距离建一座第二建筑物，该建筑物有至少一种所述的活性气体气源、至少一条将气源与第一建筑物中的公用工程站连接的有高清洁度的安全管线。

本发明的其他特征和优点参照附图由以下的描述将变得很明显，这一描述仅作为说明，而不是对本发明的限制。其中：

简图图示了一套位于公用工程区根据本发明用于提供特殊气体的装置。

在简图中，已示出第一建筑物A，它至少有一间有高清洁度的房间L₁、L₂，在其中安装至少一套公用工程站P₁，例如一台将薄层沉积在一片半导体材料上的机器。