[发明专利]二氧化锆残渣制乳浊釉及制品

权利要求书

1、本发明涉及用二氧化锆残渣作为乳浊剂，采用硼硅酸盐制熔块或配制成乳浊生料釉，施于陶瓷坯体表面及其它陶瓷制品，其特征在于采用了以生产氧化锆的残渣作熔块和釉用原料，以达到理想的熔块及釉料的化学组成范围。

2、根据权利要求1所述釉面砖、彩釉砖等陶瓷制品用的二氧化锆残渣乳浊釉，其特征在于熔块配方范围为：二氧化锆残渣0-40%、长石15-40%、石英2-30%、硼砂0-20%、硼酸0-10%、氧化锌0-8%、石灰石3-20%、硝酸钾0-5%、硝酸钠0-5%。釉料配方范围为：残渣乳浊熔块0-90%、长石10-45%、石英5-20%、石灰石3-18%、高岭土3-18%、氧化锌0-8%、二氧化锆残渣0-28%。

3、根据权利要求1所述的釉面砖、彩釉砖等陶瓷制品用乳浊釉，其特征在于釉料的化学组成范围为：SiO₂40-65% Al₂O₃2-13% B₂O₃5-10% ZrO₂2-14% K₂O0-4% Na₂O0-4% CaO2-12% ZnO0-8%。