[发明专利]用低氧化硼研磨的方法及低氧化硼制品和所使用的组合物

权利要求书

1、一种从表面去除物质的方法，其特征在于，它含有下列步骤：

使用含有低氧化硼(BxO)组合物的磨料粉末对表面进行研磨，在研磨步骤的过程中使低氧化硼(BxO)组合物的退化减至最低。

2、如权利要求1所述的方法，其特征在于：所用低氧化硼（BxO）组合物的KHN₁₀₀大于3800kg/mm²。

3、如权利要求1所述的方法，其特征在于：所用低氧化硼（BxO）组合物粉末颗粒的平均粒径为0.005-500微米，而单个的颗粒由细于150微米的晶粒组成。

4、如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的低氧化硼（BxO）组合物含有至少70%（重量）低氧化硼（BxO）。

5、如权利要求2所述的方法，其特征在于：低氧化硼（BxO）组合物包括高达约30%（重量）的选自铍、镁、钙、锶、钡、铱及其混合物的物质，这些物质以元素或其化合物形式存在于所述氧化硼中。

6、如权利要求1所述的方法，其特征在于：所用的低氧化硼（BxO）组合物是含有至少一种其它磨料的低氧化硼（BxO）磨料混合物。

7、如权利要求5所述的方法，其特征在于：所用的其它磨料选自熔融氧化铝、晶种法氧化铝、烧结氧化铝、碳化硅、碳化硼、氮化硅、立方氮化硼、单晶或多晶金刚石、氧化锆、金属碳化物及它们的混合物。

8、一种从表面去除物质的方法，其特征在于，它含有下列步骤：

使用含有低氧化硼（BxO）组合物的磨料粉末对表面进行研磨，在研磨步骤的过程中使低氧化硼（BxO）组合物的退化减至最低。

9、如权利要求8所述的方法，其特征在于：所用低氧化硼（BxO）组合物的KHN₁₀₀大于3800kg/mm²。

10、如权利要求8所述的方法，其特征在于：所用低氧化硼（BxO）组合物粉末颗粒的平均粒径为0.005-500微米，而单个的颗粒由细于150微米的晶粒组成。

11、如权利要求8所述的方法，其特征在于：所述的低氧化硼（BxO）组合物含有至少70%（重量）低氧化硼（BxO）。

12、如权利要求9所述的方法，其特征在于：低氧化硼（BxO）组合物包括高达约30%（重量）的选自铍、镁、钙、锶、钡、铱及其混合物的物质，这些物质以元素或其化合物形式存在于所述氧化硼中。

13、如权利要求1所述的方法，其特征在于：所用的低氧化硼（BxO）组合物是含有至少一种其它磨料的低氧化硼（BxO）磨料混合物。

14、如权利要求13所述的方法，其特征在于：所用的其它磨料选自熔融氧化铝、晶种法氧化铝、烧结氧化铝、碳化硅、碳化硼、氮化硅、立方氮化硼、单昌或多晶金刚石、氧化锆、金属碳化物及它们的混合物。

15、一种研磨工具，其特征在于：它含有其KHN₁₀₀大于3800kg/mm²的低氧化硼组合物。