[发明专利]高孔隙度二氧化硅微粒子的制备方法无效
| 申请号： | 94105910.3 | 申请日： | 1994-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN1049443C | 公开（公告）日： | 2000-02-16 |
| 发明（设计）人： | 刘国诠;李新会 | 申请（专利权）人： | 中国科学院化学研究所 |
| 主分类号： | C09C1/28 | 分类号： | C09C1/28 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100080 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 孔隙 二氧化硅 微粒子 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1、一种高孔隙度二氧化硅微粒子的制备方法，其特征在于它是在孔隙度为40％-70％的多孔硅胶或可控孔径玻璃中，加入浸蚀剂碱性物质或氟化物溶液，原料与侵蚀剂重量比为0.1-20，在1-200℃，0.1-200小时进行处理，得到孔隙度为75-90％的二氧化硅微粒子。
2、根据权利要求1所述的一种高孔隙度二氧化硅微粒子的制备方法，其特征在于所述的碱性物质为NaOH，NH4OH，Na3PO4或KOH。
3、根据权利要求1所述的一种高孔隙度二氧化硅微粒子的制备方法，其特征在于所述的氟化物为HF，NaF或KF。
4、根据权利要求1所述的一种高孔隙度二氧化硅微粒子的制备方法，其特征在于所述的时间为0.5-15小时。
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