[发明专利]梯度和自旋回波磁共振成像中的重影抑制无效

专利信息
申请号: 94108267.9 申请日: 1994-07-06
公开(公告)号: CN1102320A 公开(公告)日: 1995-05-10
发明(设计)人: M·富德勒 申请(专利权)人: 菲利浦电子有限公司
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055;G01R33/20;G01R33/38
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 董巍,马铁良
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 梯度 自旋 回波 磁共振 成像 中的 重影 抑制
【权利要求书】:

1、对放置在稳定和基本均匀的主磁场中的人体(7)进行磁共振成像的方法,该方法包括以下步骤:

-施加激励射频脉冲(RF脉冲)(421),对在至少一部分人体(7)中的核偶极矩进行激励;

-施加多个被时间间隔分开的再聚焦RF脉冲(422,423,……);

-在所述时间间隔内切换多个包括梯度磁场的反转的梯度磁场(432,433,……442,443,……442″,443″,……442′,443′,……),以便在被激区域中产生多个磁共振信号(452,453,……);

-测量所述磁共振信号(452,453,……)的信号样值;以及

-将所述信号样值转换为图像;

其特征在于这样地选择和提供梯度磁场(432,433,……,442,443,……,442″,443″,……442′,443′,……)和RF脉冲(421,422,……),以使得:

-以第一参数(τ)基本相同的值测量的信号样值位于k-空间内,该k-空间沿着k-空间的第一坐标(kx)具有基本相同的值,第一干扰因素是该第一参数(τ)的函数;

-以第二参数(t)基本相同的值测量的信号样值位于k-空间内,该k-空间沿着k-空间的第二坐标(ky)具有基本相同的值,第二干扰因素是该第二参数(t)的函数;

-以所述第一(τ)和第二(t)参数的不同的值测量的信号样值这样位于k-空间内,即使得所述参数分别对于所述第一(kx)和第二(ky)坐标逐渐地或单调地增大或减小。

2、根据权利要求1的方法,其特征在于第一参数响应激励RF脉冲(421)和信号样值被测量时刻之间的时间间隔t,第二参数响应信号样值被测量时刻和再聚焦自旋回波出现时刻之间的时间间隔τ。

3、根据权利要求1或2的方法,其特征在于以第三参数基本相同的值测量的信号样值位于k-空间内,该k-空间沿k-空间的第三坐标(kz)具有基本相同的值,第三干扰因素是该第三参数的函数,第三参数是由运动、例如流体的流动或呼吸运动引入的相位误差。

4、根据权利要求1或2或3的方法,其特征在于沿第一方向(Gy)在再聚焦RF脉冲(422,423,……)之间施加多个梯度场反转(442″,443″,……),以便产生基本上与沿第二方向(Gx)的恒定梯度(432,433,……)一致的梯度回波信号(452,453,……);在再聚焦RF脉冲(422,423,……)以及所述一致的梯度场反转(442″,443″,……)和恒定梯度场之间沿所述第一方向(Gx)施加相位编码梯度(442,443,……),以便根据激励RF脉冲(421)对相对时间为单调递增或递减的磁共振信号(452,453,……)进行相位编码。

5、根据权利要求4的方法,其特征在于施加每一个都包括一激励RF脉冲(421)、若干个再聚焦RF脉冲(422,423,……)、梯度场反转(442″,443″,……)以及恒定梯度场(432,433,……)的多个相似序列,在这些序列中,在每个序列期间横转过k-空间的轨迹通过施加梯度场的为时间的恰当补偿值而在固定的方向上被移位,这一补偿值在序列之间变化。

6、根据权利要求1或2或3的方法,其特征在于沿第一方向(Gy)在再聚焦RF脉冲(622,623,……)之间施加多个梯度场反转(642″,643″,……),以便产生梯度回波信号(652,653,……);在第二方向(Gx)上施加基本上与梯度场反转(642″,643″,……)的反转时刻一致的梯度场尖峰信号(632,633,……);沿所述第一方向(Gy)在再聚焦RF脉冲(622,623,……)和所述梯度场反转(642″,643″,…)之间施加相应编码梯度(642,643,……),以便根据激励RF脉冲对相对时间为单调递增或递减的磁共振信号(652,653,……)进行相位编码。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于菲利浦电子有限公司,未经菲利浦电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/94108267.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top