[发明专利]可用共挤出法制造的磁头压垫无效

专利信息
申请号: 94113773.2 申请日: 1994-10-28
公开(公告)号: CN1114428A 公开(公告)日: 1996-01-03
发明(设计)人: R·D·韦格纳;S·T·福尔肯伯里;J·R·哈门尼 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: G03B17/00 分类号: G03B17/00;G03B29/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张志醒,曹济洪
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 可用 挤出 法制 磁头
【权利要求书】:

1.一种压垫,用以推动胶片使之与照相机中的磁头接触,其特征在于该压垫包括:

可变形的芯部材料;和

敷到所述芯部材料上的材料层,所述材料层与胶片的摩擦系数较小,且所述材料层由能与所述芯部材料共挤出的材料制成。

2.如权利要求1所述的压垫,其特征在于,所述芯部材料和所述被覆层材料与所述胶片的化学反应程度极小。

3.如权利要求2所述的压垫,其特征在于,所述被覆层材料和所述芯部材料用共挤出法制成。

4.如权利要求1所述的压垫,其特征在于,所述芯部材料选自由Santoprene和Kraton组成的一组材料。

5.如权利要求4所述的压垫,其特征在于,所述被覆层材料为聚乙烯。

6.如权利要求5所述的压垫,其特征在于,所述被覆层材料含有硅酮添加剂。

7.如权利要求5所述的压垫,其特征在于,所述压垫用共挤出法制造。

8.一种压垫构件,用以推动胶片使其与第二构件接触,其特征在于,所述压垫构件包括:

芯部材料,结构细长,其上制有长的沟槽,所述芯部材料可变形,且用挤出法制成;和

被覆层材料,敷在所述芯部材料表面,其与所述胶片的摩擦系数相当小,所述被覆材料是用共挤出法被覆到所述芯部材料上的。

9.如权利要求8所述的压垫,其特征在于,所述芯部材料选自由Santoprene材料和Kraton材料组成的一组材料。

10.如权利要求9所述的压垫,其特征在于,所述被覆层材料为聚乙烯。

11.如权利要求10所述的压垫,其特征在于,所述被覆层材料中还含有硅酮添加剂。

12.如权利要求11所述的压垫,其特征在于,所述第二构件是照相机中的磁头。

13.用以推动胶片使其压在第二构件上的一种压垫的制造方法,其特征在于,它包括下列步骤:

挤压由可变形材料制成的其上有沟槽的细长构件;

共挤压所述细长构件上由摩擦系数小的材料制成的被覆层;且

其中所述细长构件材料与所述胶片的相互作用程度小。

14.如权利要求13所述的方法,其特征在于,它还包括从Santoprene材料和Kraton材料组成的一组材料中选取所述细长构件材料的步骤。

15.如权利要求14所述的方法,其特征在于,它还包括选用聚乙烯作为所述被覆层材料的步骤。

16.如权利要求15所述的方法,其特征在于,它还包括往所述被覆层材料中加硅酮材料的步骤。

17.如权利要求1所述的压垫,其特征在于,它设有沟槽供将所述胶片压在所述磁头上之用。

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