[发明专利]可用共挤出法制造的磁头压垫无效
申请号: | 94113773.2 | 申请日: | 1994-10-28 |
公开(公告)号: | CN1114428A | 公开(公告)日: | 1996-01-03 |
发明(设计)人: | R·D·韦格纳;S·T·福尔肯伯里;J·R·哈门尼 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | G03B17/00 | 分类号: | G03B17/00;G03B29/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张志醒,曹济洪 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 可用 挤出 法制 磁头 | ||
1.一种压垫,用以推动胶片使之与照相机中的磁头接触,其特征在于该压垫包括:
可变形的芯部材料;和
敷到所述芯部材料上的材料层,所述材料层与胶片的摩擦系数较小,且所述材料层由能与所述芯部材料共挤出的材料制成。
2.如权利要求1所述的压垫,其特征在于,所述芯部材料和所述被覆层材料与所述胶片的化学反应程度极小。
3.如权利要求2所述的压垫,其特征在于,所述被覆层材料和所述芯部材料用共挤出法制成。
4.如权利要求1所述的压垫,其特征在于,所述芯部材料选自由Santoprene和Kraton组成的一组材料。
5.如权利要求4所述的压垫,其特征在于,所述被覆层材料为聚乙烯。
6.如权利要求5所述的压垫,其特征在于,所述被覆层材料含有硅酮添加剂。
7.如权利要求5所述的压垫,其特征在于,所述压垫用共挤出法制造。
8.一种压垫构件,用以推动胶片使其与第二构件接触,其特征在于,所述压垫构件包括:
芯部材料,结构细长,其上制有长的沟槽,所述芯部材料可变形,且用挤出法制成;和
被覆层材料,敷在所述芯部材料表面,其与所述胶片的摩擦系数相当小,所述被覆材料是用共挤出法被覆到所述芯部材料上的。
9.如权利要求8所述的压垫,其特征在于,所述芯部材料选自由Santoprene材料和Kraton材料组成的一组材料。
10.如权利要求9所述的压垫,其特征在于,所述被覆层材料为聚乙烯。
11.如权利要求10所述的压垫,其特征在于,所述被覆层材料中还含有硅酮添加剂。
12.如权利要求11所述的压垫,其特征在于,所述第二构件是照相机中的磁头。
13.用以推动胶片使其压在第二构件上的一种压垫的制造方法,其特征在于,它包括下列步骤:
挤压由可变形材料制成的其上有沟槽的细长构件;
共挤压所述细长构件上由摩擦系数小的材料制成的被覆层;且
其中所述细长构件材料与所述胶片的相互作用程度小。
14.如权利要求13所述的方法,其特征在于,它还包括从Santoprene材料和Kraton材料组成的一组材料中选取所述细长构件材料的步骤。
15.如权利要求14所述的方法,其特征在于,它还包括选用聚乙烯作为所述被覆层材料的步骤。
16.如权利要求15所述的方法,其特征在于,它还包括往所述被覆层材料中加硅酮材料的步骤。
17.如权利要求1所述的压垫,其特征在于,它设有沟槽供将所述胶片压在所述磁头上之用。
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