[发明专利]从砂上清除附着物的装置无效

专利信息
申请号: 94116492.6 申请日: 1994-09-24
公开(公告)号: CN1043315C 公开(公告)日: 1999-05-12
发明(设计)人: 修增野;严富田;和春松井;昭夫矶野;武彦松本;毅村田;之典青木 申请(专利权)人: 新东工业株式会社
主分类号: B22C5/04 分类号: B22C5/04
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 张祖昌
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 清除 附着物 装置
【权利要求书】:

1.一种从砂表面清除附着物的装置,具有:

一个水平地旋转,用于从砂表面清除附着物的旋转箱(5),所述旋转箱包括一圆形底板(5A),一从所述底板端部向上向外延伸的倾斜周壁(5B),以及从所述倾斜周壁的顶部向内延伸的环形部分(5C);

用于转动所述旋转箱的驱动装置(20);以及

具有活动表面(15)的活动装置(8),所述活动表面基本平行于所述旋转箱的倾斜周壁且与其间隔开来。

2.如权利要求1所述的装置,其特征在于:该装置具有一壳体(1),所述旋转箱(5)和活动装置(8)安装在壳体(1)上,在旋转箱(5)上方有一溜槽(3)安装在壳体(5)上,用于将待处理的砂送入所述旋转箱。

3.如权利要求2所述的装置,其特征在于:在所述壳体下部设有一个孔(7),用于排出由旋转箱处理过的砂。

4.如权利要求1所述的装置,其特征在于:所述活动装置(8)包括可绕基本平行于所述旋转箱的倾斜周壁(5B)的轴线旋转的多个滚轮(9)。

5.如权利要求1所述的装置,其特征在于:所述活动装置(8)包括多个可绕竖直轴线转动的滚轮(9),每个滚轮(9)具有基本平行于所述旋转箱的倾斜周壁(5B)的活动表面(15)。

6.如权利要求1所述的装置,其特征在于:在所述倾斜周壁(5B)和所述活动表面(15)之间的距离是可调节的。

7.如权利要求6所述的装置,其特征在于:所述装置还具有一位置调节装置(30),用于在朝向和背离所述倾斜周壁(5B)的方向移动所述活动装置(8),从而调节所述距离。

8.如权利要求6所述的装置,其特征在于:所述驱动装置(20)包括一电机(21),所述电机的负载电流是可监测的,所述距离是按照电机的负载电流调节的。

9.如权利要求1所述的装置,其特征在于:所述装置还包括压紧装置(50),用于以预定压力将活动表面(50)压向所述旋转箱的倾斜周壁(5B)。

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