[发明专利]将成像器件中干涉条纹减至最小的层成像叠片无效

专利信息
申请号: 94191609.X 申请日: 1994-02-02
公开(公告)号: CN1120370A 公开(公告)日: 1996-04-10
发明(设计)人: B·迪桑那亚卡 申请(专利权)人: 明尼苏达矿产制造公司
主分类号: G02B1/10 分类号: G02B1/10;G01T1/20
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 马铁良,萧掬昌
地址: 美国明*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 成像 器件 干涉 条纹 减至 最小
【权利要求书】:

1.一种将成像器件中的干涉条纹减至最小的分层成像叠片(30),包括:

其折射系数为n1的聚合物层(34),它带有基本为平面的第一主表面,以及与之相对的表面粗糙度为RA的第二主表面;和

提供在该聚合物层的第二表面上的聚合涂层(36),该涂层折射系数为n2,厚度小于50μm,其中RA与Δn为n2-n1的绝对值,RA的单位μm。

2.如权利要求1的分层成像叠片,其中所述涂层的厚度是在大约从5μm至15μm的范围之内。

3.如权利要求1的分层成像叠片,其中Δn是在大约从0.02至0.08的范围之内。

4.如权利要求1、2或3的分层成像叠片,其中RA是在大约从0.5μm至2.5μm的范围之内。

5.如权利要求4的分层成像叠片,进一步包括提供于涂层上与聚合物层相反一侧的光敏层(38)。

6.一种将成像器件中的干涉条纹减至最小的分层成像叠片,包括:

其折射系数为n1的聚合物层(34),它带有基本为平面的第一主表面和表面粗糙度为RA的第二主表面(35);

提供于该聚合物层的第二表面上的粘合层(36),该粘合层的折射系数为n2,厚度小于50μm,其中RA和Δn的乘积是在大约从0.01至0.05的范围之内,在此设Δn为n2-n1的绝对值,RA以的单位为μm;和

提供在所述粘合层上与聚合物层相反一侧的光敏层(38)。

7.如权利要求6的分层成像叠片,其中该光敏层为一层非晶体硒。

8.如权利要求6的分层成像叠片,其中该粘合剂层的厚度是在大约5μm至15μm的范围之内。

9.如权利要求6、7或8的分层成像叠片,其中Δn是在大约从0.02至0.08的范围之内。

10.如权利要求9的分层成像叠片,其中RA是在大约从0.5μm至2.5μm的范围之内。

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