[发明专利]金刚石涂覆体无效

专利信息
申请号: 94192934.5 申请日: 1994-07-08
公开(公告)号: CN1128054A 公开(公告)日: 1996-07-31
发明(设计)人: G·库兰德;I·理耐克;H·布朗德鲁普沃格森 申请(专利权)人: 桑德维克公司
主分类号: C23C28/04 分类号: C23C28/04;C23C16/26;C23C16/30;C23C14/06;//B23B27/20;C04B41/89
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 徐汝巽
地址: 瑞典桑*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 金刚石 涂覆体
【说明书】:

本发明涉及一种具有良好结合性和耐磨损性的金刚石涂层的金刚石涂覆体,尤其是一种用于切削含有例如Si和Cu等合金元素的Al合金及其同类的切削刀具。

为了涂覆切削刀具、钻头、刀子等,通过CVD或PVD技术由气相直接制备金刚石薄膜具有相当重要的意义。Derjaguin及其同事在1977年于莫斯科已经报导了用适宜的沉积速率来气相沉积金刚石。在80年代初期一组日本科学家再现这些结果后,全世界开始深入研究CVD金刚石。已描述了一系列由气相制备金刚石涂层的新方法,包括热阴极法、微波等离子体法、弧光放电等离子体法、气焰法、空心阴极法及不同形式的等离子流法。通常是用纯氢气外加0.1到5.0%的CH4作为气体混合物,但也可用其它碳氢化合物气体作为碳的来源。另外,可通过添加其它气体例如含氧气体和惰性气体来控制金刚石膜的纯度和质量。

在用于机械加工的切削刀片(也称为衬底)上通过CVD技术涂覆金刚石膜的主要问题证明是金刚石涂层的粘附力不高。刀片的表面特性对粘附的影响很大。然而,据认为粘附力低的主要原因是涂层/衬底间的界面上形成了空洞和非金刚石的碳材料以及涂层内有很高的压应力。形成高残余应力(压应力)的部分原因是金刚石的热膨胀系数低。

切削应用中待镀金刚石涂层的衬底包括硬质合金和陶瓷例如SiAlON和Si3N4,并且大家都知道在这类衬底上沉积金刚石的技术。然而,如上面所述,这些原有技术的产品从加工试验来判断,其金刚石膜的粘附力不足。补救粘附力低的一个推荐措施是使用一种性能与原始衬底材料相比更适应金刚石的中间涂层。JP-A-59-166671和JP-A-59-166672中叙述了一种对硬质合金或金属合金进行金刚石镀覆的方法,在金刚石镀覆之前,先镀一层由周期表的IV、V或VI族过渡金属或硅、硼或铝的各种碳化物、氮化物、碳氮化物或氧碳氮化物构成的内部中间层。也提及了用任一种这些涂层作为最外层的可能性。膜是通过磁控溅射沉积的。据说刀具具有优异的耐磨损性能,然而并没说最外涂层的存在(不是金刚石涂层)会以与中间涂层相同的方式影响耐磨损性。

US4,707,387是说明中间涂层提高金刚石涂层与衬底之间的粘附力的另一个例子。该专利描述了一种在金刚石涂层与衬底间有一金属薄涂层的化合物体,该金属涂层对碳、特定的碳化物、氮化物和氧化物或一种贵金属有较强的亲和力。也提及了用任一种这些涂层作为最外层的可能性,但并不是特别有利。

在CIRP年刊vol.41(1)1992,p381中描述了一种用铬或碳化铬的功能涂层涂覆金刚石颗粒的方法。然而该文着重讨论了涂铬的金刚石颗粒与周围混有这些颗粒的基体之间的粘附。

现已令人惊奇地发现,如果在金刚石涂层上沉积一层氮化铬、碳化铬或碳氮化铬的涂层,就可显著提高硬质合金或陶瓷体尤其是切削刀片上金刚石涂层的抗剥落性及耐磨损性。即使在切削加工过程中局部容易磨掉该含铬层,以所加工的零件数或涂层磨坏的时间来衡量,该层的存在典型地可提高至少50%的使用效果。如果涂层经历机械后处理例如用硬质颗粒喷砂或涂刷,还可进一步提高这个有利效果。典型地,通过沉积含铬层和机械后处理的综合处理,使用效果可增加两倍。

图1是根据本发明的一种涂层的4000倍扫描电镜显微照片,其中:

A-CrN层

B-金刚石层

C-硬质合金衬底

根据本发明,现提供了一种涂层中含有至少一层金刚石和在金刚石层外至少一层氮化铬、碳化铬或碳氮化铬优选地氮化铬的物体。在多于一层金刚石层的情况下,该金刚石层是涂层的最外层金刚石层。优选地含铬层与此金刚石层直接接触,但在含铬层与该金刚石层之间也可有一层厚度<1μm的含有耐磨损或金属材料的薄层。

通常含铬层是最外层,但正如原有技术中所知,在它的上面也可有一层0.1-3μm厚的含有另一种耐磨损、金属或着色材料的附加层。

在一个优选的实施方案中,该金刚石层与被涂覆体直接接触,或是在这里被一层<3μm厚的耐磨损或金属材料层分开。

金刚石层的厚度在1—20μm的范围内,优选地为4-15μm。含铬层的厚度为0.1-5μm。后者的厚度经常是金刚石层厚度的<200%,优选地<50%。

金刚石涂层的晶粒尺寸优选地为<15μm,最优选地为3-10μm。含铬层的晶粒尺寸为<1μm。

含铬层具有(或经处理后具有)的表面粗糙度Ra为0.1-0.5μm,优选地为0.2-0.3μm。

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