[发明专利]具有改进难溶、分散相、流体调理剂沉积的高发泡调理香波

权利要求书

1、具有改进分散相、不挥发液体调理剂沉积的高发泡、调理香波组合物，所述组合物包含：

(a)约5～29.5％(重量)选自烷基硫酸盐和烷基乙氧基化的硫酸盐，其酸和其混合物的阴离子洗涤表面活性剂；

(b)约0.5～5％(重量)N-酰基氨基酸阴离子洗涤表面活性剂和其盐；

(c)约0.05～10％(重量)分散在所述组合物中的不挥发、难溶流体调理剂；

(d)约0.5～10％(重量)用于所述调理剂的结晶悬浮剂；

(e)约40～89％(重量)水；其中在所述组合物中，总的洗涤表面活性剂的浓度为10～30％；组分(b)与组分(a)的重量比至少为约1∶20；并且所述组合物基本上无甜菜碱表面活性剂和链烷醇酰胺发泡剂。

2、根据权利要求1的香波组合物，其中组分(b)与组分(a)的重量比为约1∶20～1∶1。

3、根据权利要求1的香波组合物，其中所述组合物包含：

(a)约10～25％(重量)所述烷基硫酸盐和烷基乙氧基化的硫酸盐，其中烷基硫酸盐与烷基乙氧基化硫酸盐的重量比为约4∶1～1∶10；

(b)约0.7～4％(重量)下列通式的N-酰基氨基酸表面活性剂，或其盐：式中R¹为C₈-C₂₄烷基或链烯基；R²为-H，C₁-C₄烷基、苯基，或-CH₂COOM；R₃为-CR⁴₂-或C₁-C₂烷氧基，其中R⁴为-H或C₁-C₆烷基或烷基酯；n为1-4；和M为-H或阳离子；

(c)约0.1～8％(重量)分散在所述组合物中的不挥发难溶流体调理剂，选自聚硅氧烷流体和有机流体调理剂；

(d)约0.5～5％(重量)，用于所述去头屑活性物质的结晶悬浮剂；

(e)约50～85％(重量)的水；其中：所述香波组合物中的总洗涤表面活性剂浓度为12-25％；并且组分(b)与组分(a)的重量比为1∶18～1∶1。

4、根据权利要求3的香波组合物，其中组分(b)与组分(a)的重量比为约1∶12～1∶4。

5、根据权利要求3的香波组合物，其中所述的调理剂选自聚硅氧烷流体和有机流体调理剂，和其混合物。

6、根据权利要求5的香波组合物，其中所述的调理剂选自聚硅氧烷流体、烃流体、脂肪酯类，和其混合物。

7、根据权利要求6的香波组合物，其中所述调理剂为聚硅氧烷流体或其混合物。

8、根据权利要求3的香波组合物，其中所述组合物包含约1～4％的所述悬浮剂。

9、根据权利要求8的香波组合物，其中所述的悬浮剂选自乙二醇长链酯类，和N，N-二烃基酰氨基苯甲酸和其盐，和其混合物。

10、根据权利要求1的香波组合物，其中所述的组分(b)表面活性剂选自C₁₂-C₂₂烷基肌氨酸酯，其酸，和其混合物。

11、根据权利要求3的香波组合物，其中所述的组分(b)表面活性剂选自C₁₂-C₂₂烷基肌氨酸酯、其酸、和其混合物。

12、根据权利要求1的香波组合物，进一步季铵聚合的发泡剂。

13、根据权利要求12的香波组合物，包含约0.01～0.2(重量)的聚季铵10。