[实用新型]辐射加工用源架

权利要求书

1、一种辐射加工用源架，是由源棒、源棒套管及根据辐射场要求而确定的不同几何形状的源框架所组成，其特征在于装短源棒的源套管与短源棒活性部分相邻的管壁采用二根或二根以上的拉筋[2]挡住源棒[3]不使其掉出的结构，即半裸装源棒源套管的结构[1]。

2、根据权利要求1所述的辐射加工用源架，其特征在于板源框架的一侧开有一个放置或取出裸源棒［7］和（或）半裸装源棒源套管［1］的窗［11］。

3、根据按权利要求1所述的辐射加工用源架，其特征在于板源架框架上边框［9］放置半裸装源棒套管［1］的有方头［12］的塞子［16］的结构为槽钢形（∏字形）结构。

4、根据权利要求1所述的辐射加工用源架，其特征在于半裸装源棒源套管的装入源棒的一端有一个长方体形的方头［12］的塞子［16］，与之连接的源套管上有一个定位开口［18］。

5、根据权利要求1所述的辐射加工用源架，其特征在于半裸装源棒套管的装入源棒的一端的塞子［16］的头部的长方体形方头［12］的短边的长度稍小于板源架上边框［9］的内净宽，而此方头［12］的长边的长度则大于上边框的内净宽，并且此塞子［16］上带有一个与源套管定位开口［18］相定位的定位块［17］。