[实用新型]用于溅射设备中的多基片、多功能载片机构无效
| 申请号： | 94205131.9 | 申请日： | 1994-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN2183373Y | 公开（公告）日： | 1994-11-23 |
| 发明（设计）人： | 阎明朗;赖武彦;尹林 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50 |
| 代理公司： | 中国科学院专利事务所 | 代理人： | 高存秀 |
| 地址： | 100080*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 溅射 设备 中的 多基片 多功能 机构 | ||
【权利要求书】：
1、一种由档板①、基片装载转盘③组成的多基片、多功能载片机构，其特征在于：还包括下档板②、档板上、下位置调整装置④、定位销⑤、定位刻度指示⑥、二个步进马达⑦，二个步进马达)⑦由一台微机控制，一个步进马达)⑦与上档板①转轴真空动态密封连接；另一台步进马达⑦与基片装载转盘③的轴齿轮齿带连接，基片装载转盘③的转轴通过动密封装在真空的法兰盘上；下档板②转轴为空心，转它穿过基片装载转盘③的轴，它们之间动态真空密封。
2、按权利要求1所述的多基片、多功能载片机构，其特征在于：所述的上档板①上面有一个扇形开口，其开口大小可以任意调节，在扇形开口处有一用于调节档板扇形开口大小的隔离片。
3、按权利要求1所述的多基片、多功能载片机构，其特征在于：在隔离片上放置一给基片施在水平磁场的磁铁。
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