[发明专利]磁记录介质及其制造方法无效
申请号: | 95100607.X | 申请日: | 1995-01-06 |
公开(公告)号: | CN1075220C | 公开(公告)日: | 2001-11-21 |
发明(设计)人: | 一色贞一;波多野真之;桥本润一;狩野智章;神田悦史 | 申请(专利权)人: | 东京磁气印刷株式会社 |
主分类号: | G11B5/68 | 分类号: | G11B5/68;G06K19/06 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 孙敬国 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
1.一种包括有非磁性支承物、且在所述支承物上至少形成两磁性层的磁记录介质,其特征在于,所述至少两磁性层包括位于所述支承物上的一个第一磁性层,和位于所述第一磁性层上方的一个第二磁性层,所述第二磁性层含有弥散在粘结剂中的、矫顽力为4,000Oe或更低的磁性颗粒,并具有在取向磁场的影响下、已由记录在所述第一磁性层上的信号所产生磁场加以记录下的不可重写的固定信号,所述磁场所具有的磁场强度比所述第一磁性层的矫顽力小,但足够强,使得能够引起所述磁性颗粒运动,所述第二磁性层上记录的所述不可重写的固定信号是由几个特定区域以及邻近于所述特定区域的其他区域形成的,所述特定区域具有与所述其他区域不同的每单位面积的磁输出。
2.如权利要求1所述的磁记录介质,其特征在于,记录在所述第二磁性层上的所述不可重写的固定信号由几个特定区域以及邻近于所述特定区域的其他区域形成,所述特定区域具有与所述其他区域不同的单位体积磁颗粒数。
3.如权利要求1或2所述的磁记录介质,其特征在于,记录在所述第二磁性层上的所述不可重写的固定信号是一个用来识别磁记录介质的信息。
4.一种制造包括非磁性支承物和在所述支承物上至少形成两磁性层的磁记录介质的方法,其特征在于,它包括下述步骤:
在所述非磁性支承物上形成第一磁性层;
磁性地记录特定信号于所述第一磁性层上;
将磁性涂层涂抹在所述第一磁性层上,以形成含有弥散在粘结剂内、矫顽力为4,000Oe或更低的磁性颗粒的第二磁性层;
在所述磁性涂层完全干燥和固化之前,施加场强低于所述第一磁性层但却足够强从而能够使所述磁性颗粒运动的矫顽力的磁取向场于所述磁性涂层上;
对所述磁性涂层进行所述干燥和固体处理,以形成所述第二磁性层,所述第二磁性层具有在所述磁取向场的影响下,已由记录在所述第一磁性层上的所述信号产生的磁场加以记录下的不可重写的固定信号。
5.如权利要求4所述的制造磁记录介质的方法,其特征在于,在所述磁性涂层干燥和固定以前施加到第二磁性层用于磁性涂层上的所述磁取向场沿所述第一磁性层的表面是均匀的。
6.如权利要求4或5所述的制造磁记录介质的方法,其特征在于,所述磁取向场由磁取向装置产生,所述干燥和固化由干燥装置完成,并且所述磁取向装置的至少一部分位于所述干燥装置内。
7.如权利要求5所述的制造磁记录介质的方法,其特征在于,所述磁取向场由包括螺线管线圈在内的磁取向装置产生。
8.如权利要求6所述的制造磁性记录介质的方法,其特征在于,所述磁取向场是由包括螺线管线圈的磁取向装置产生。
9.一种制造包括有非磁性支承物、并在所述支承物上形成至少两磁性层的磁记录介质的方法,其特征在于,它包括下述步骤:
在所述非磁性支承物上形成第一磁性层;
磁性地记录特定信号于所述第一磁性层上;
将磁性涂层涂抹在所述第一磁性层上,以形成含有弥散在粘结剂中的矫顽力为4,000Oe或更低的磁性颗粒的第二磁性层;
在将所述磁性涂层涂抹在所述第一磁性层表面的同时,施加场强低于所述第一磁性层矫顽力的直流磁取向场于所述磁性涂层上;
此后对所述磁性涂层进行干燥和固化以形成所述第二磁性层,所述第二磁性层具有在所述磁取向场的作用下,已由记录在所述第一磁性层上的所述信号产生的磁场加以记录下的不可重写的固定信号。
10.如权利要求9所述的制造磁记录介质的方法,其特征在于,在涂抹所述磁性涂层的同时施加到第二磁性层用磁性涂层上的直流磁取向场沿所述第一磁性层表面是均匀的。
11.如权利要求10所述的制造磁记录介质的方法,其特征在于,所述直流磁取向场由直流螺线管线圈产生。
12.如权利要求9或10或11所述的制造磁记录介质的方法,其特征在于,所述方法进一步包含在涂抹所述磁性涂层之后、但在完成所述干燥和固化之前,施加第二直流磁取向场的步骤。
13.如权利要求12所述的制造磁记录介质的方法,其特征在于,所述第二直流磁取向场沿所述第一磁性层表面是均匀的。
14.如权利要求13所述的制造磁记录介质的方法,其特征在于,所述第二直流磁取向场由直流螺线管线圈产生。
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