[发明专利]低余辉发光物质无效

专利信息
申请号: 95101798.5 申请日: 1995-01-26
公开(公告)号: CN1089359C 公开(公告)日: 2002-08-21
发明(设计)人: W·罗斯纳;C·格拉布迈耶;H·波丁格;J·列佩特;A·扬克;W·舒伯特 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: C09K11/84 分类号: C09K11/84;C04B35/50
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴大建
地址: 联邦德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 余辉 发光 物质
【权利要求书】:

1.用于幅射探射器的发光物质,其组成基于通式为(M1-XLnXMoV)2O2S的颜料粉末,式中M包括Y、La和Gd中至少一种元素,Ln为Eu、Ce、Pr、Tb、Yb、Dy、Sm和Ho一组中至少一种元素,且(2×10-1)≥X≥(1×10-6)和(6×10-3)≥V≥(6×10-8)。

2.按照权利要求1的发光物质,其中Ln包括Ce和选自Tb、Pr和Eu一组中的至少另外一种元素。

3.按照权利要求1或2的发光物质,其中含有5×10-2至1×10-5%(摩尔)钼。

4.一种降低余辉的发光物质陶瓷的制备方法,包括以下步骤:

-提供并均化通式为(M1-XLnXMoV)2O2S的颜料粉末,式中M包括Y、La和Gd中至少一种元素,Ln为Eu、Ce、Pr、Tb、Yb、Dy、Sm和Ho一组中至少一种元素,且(2×10-1)≥X≥(1×10-6)和(6×10-3)≥V≥(6×10-8),

-在1200℃以上温度和惰性或还原气氛下加压以将颜料粉末压制成为一种陶瓷,和

-在氧化条件下退火处理压制的陶瓷。

5.按照权利要求4的方法,其中在600至900℃温度下进行退火。

6.按照权利要求4或5的方法,其中退火在空气中进行1至100小时。

7.按照权利要求4或5的方法,其中采用按BET确定的比表面至少为10m2/g的颜料粉。

8.按照权利要求4或5的方法,其中使退火后的发光物质陶瓷经受一次还原条件下的控制的温度处理,以便将余辉调节到一个所希望的较高数值上。

9.浓度范围为10-1至10-6%(摩尔)的钼用作稀土元素氧硫化物发光物质陶瓷的掺杂物以降低余辉。

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