[发明专利]半导体封装及制造方法无效
申请号: | 95105049.4 | 申请日: | 1995-04-27 |
公开(公告)号: | CN1122052A | 公开(公告)日: | 1996-05-08 |
发明(设计)人: | 林田澄人;梅本一宽 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;H01L23/28;H01L23/29 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 封装 制造 方法 | ||
1.一种安装有半导体器件的半导体封装的制造方法,它包含下列步骤:
使用来耗散半导体器件产生的热的金属热沉的表面羟基化,然后在上述热沉的表面上沉积一层硅烷连接剂,以及
采用在上述热沉周围注入一树脂材料的方法把上述热沉埋置于注模树脂中。
2.权利要求1所述的制造半导体封装的方法,其特征在于:在上述热沉表面上沉积一层硅烷连接剂的步骤所沉积的硅烷连接剂层包含由下列一组中选择的一种:γ—氨丙基—三乙氧基甲硅烷、N—β—(氨乙基)—γ氨丙基—三甲氧基甲硅烷、β—(3,4—环氧—环己基)—乙基三甲氧基甲硅烷、以及γ—缩水甘油氧—丙基三甲氧基甲硅烷。
3.权利要求1所述的制造半导体封装的方法,其特征在于:使上述热沉的表面羟基化的步骤是借助于将上述热沉浸入碱溶液然而用水清洗并干燥的方法来执行的。
4.一种半导体封装,带有内置半导体器件和一个用来耗散注模树脂中的上述半导体器件所产生的热的埋置金属热沉,上述热沉的表面带有一层硅烷连接剂。
5.一种半导体封装,带有内置半导体器件和一个用来耗散注模树脂中的上述半导体器件所产生的热的埋置金属热沉,上述热沉的表面带有一层含有选自下列一组材料之一的硅烷连接剂:γ—氨丙基—三乙氧基甲硅烷、N—β—(氨乙基)—γ—氨丙基—三甲氧基甲硅烷、β—(3,4—环氧—环己基)—乙基三甲氧基甲硅烷、以及γ—缩水甘油氧—丙基三甲氧基甲硅烷。
6.一种半导体封装,带有内置半导体器件和一个用来耗散注模树脂中的上述半导体器件所产生的热的埋置金属热沉,上述热沉用碱溶液羟基化,且上述热沉的表面带有一层硅烷连接剂。
7.一种半导体封装,带有内置半导体器件和一个用来耗散注模树脂中的上述半导体器件所产生的热的埋置金属热沉,上述热沉制作成简单形状,且上述热沉的表面带有一层硅烷连接剂。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造