[发明专利]含酸性亲水剂的化妆用遮护组合物及其应用无效
申请号: | 95105066.4 | 申请日: | 1995-04-18 |
公开(公告)号: | CN1077427C | 公开(公告)日: | 2002-01-09 |
发明(设计)人: | M·艾蒂夫 | 申请(专利权)人: | 莱雅公司 |
主分类号: | A61K7/42 | 分类号: | A61K7/42;A61P17/16 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 谭明胜,吴大建 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 酸性 水剂 化妆 遮护 组合 及其 应用 | ||
1.化妆用遮护组合物,其特征在于该组合物在化妆品可接受的水包油型乳剂型载体中含有:(i)至少一种选自下列的亲水性遮护剂:3-亚苄基樟脑磺酸衍生物、二苯甲酮磺酸衍生物、苯并咪唑磺酸衍生物,所述化合物可以被部分或全部中和,和(ii)至少一种对于所述遮护剂而言为不溶的惰性吸附性填料。
2.根据权利要求1的组合物,其特征在于所述的遮护紫外线辐射的亲水性遮护剂是具有下列式(VD结构的化合物:其中
R14和R15相同或不同,代表氢或者含有1-8个碳原子的直链或支链的烷基,
a、b和c相同或不同,等于0或1。
3.根据权利要求2的组合物,其特征在于在式(VI)中a=b=c=0,并且R15代表甲基。
4.根据权利要求1的组合物,其特征在于所述的遮护紫外线辐射的亲水性遮护剂是具有式(VII)结构的化合物:其中
X代表氧或者-NH-基,
R16代表氢、含有1-8个碳原子的直链或支链的烷基或烷氧基、或者式(VIII)基团其中X′与X无关,代表氧或者-NH-基。
5.根据权利要求4的组合物,其特征在于在式(VII)中X代表-NH-基,并且R16代表氢。
6.根据权利要求4的组合物,其特征在于在式(VII)中X代表-NH-基,R16代表式(VIII)基团,而X′代表-NH-基。
7.根据权利要求4的组合物,其特征在于在式(VII)中X代表氧,R16代表式(VIII)基团,而X′代表氧。
8.根据上述任何一项权利要求的组合物,其特征在于所述的吸附性惰性填料的比表面积至少为10m2/g。
9.根据权利要求8的组合物,其特征在于,所述的吸附性惰性填料的比表面积至少为50m2/g。
10.根据权利要求9的组合物,其特征在于,所述的吸附性惰性填料的比表面积至少为100m2/g。
11.根据上述任何一项权利要求的组合物,其特征在于所述的吸附性惰性填料选自二氧化硅、氧化铝、硅铝酸盐、沸石、滑石和氧化镁。
12.根据权利要求11的组合物,其特征在于所述的吸附性惰性填料是吸附性煅制二氧化硅、吸附性沉淀二氧化硅或者硅胶。
13.根据上述任何一项权利要求的组合物,其特征在于所述的遮护紫外线辐射的亲水性遮护剂占组合物总重量的约0.2-10%(重量)。
14.根据上述任何一项权利要求的组合物,其特征在于所述的吸附性惰性填料占组合物总重量的约0.15-5%(重量)。
15.根据权利要求14的组合物,其特征在于所述的吸附性惰性填料占组合物总重量的0.2-3%(重量)。
16.根据上述任何一项权利要求的组合物,其特征在于该组合物还含有除权利要求1所述酸性亲水性遮护剂之外的一种或多种在UVB和/或UVA光范围内有活性的附加的亲水性或亲油性防晒遮护剂。
17.根据权利要求16的组合物,其特征在于所述附加的防晒遮护剂选自肉桂酸酯、水杨酸酯、亚苄基樟脑衍生物、三嗪衍生物、二苯甲酮衍生物、二苯甲酰基甲烷衍生物、β,β-二苯基丙烯酸衍生物、对氨基苯甲酸衍生物、邻氨基苯甲酸酯、遮护聚合物和遮护聚硅酮。
18.根据权利要求17的组合物,其特征在于所述附加的防晒遮护剂选自4-叔丁基-4′-甲氧基二苯甲酰基甲烷、2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸2-乙基己酯和3-(4-甲基亚苄基)樟脑。
19.根据上述任何一项权利要求的组合物,其特征在于该组合物还含有包核或非包核的能够通过散射和/或反射在物理上阻断UV辐照的金属氧化物纳米级颜料,作为附加的光保护剂。
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