[发明专利]用于磁共振成象装置(MRI)的磁场生成器无效
申请号: | 95105412.0 | 申请日: | 1995-05-02 |
公开(公告)号: | CN1058085C | 公开(公告)日: | 2000-11-01 |
发明(设计)人: | 太田公春;桥本重生;结城正广;樱井秀也 | 申请(专利权)人: | 住友特殊金属株式会社 |
主分类号: | G01R33/38 | 分类号: | G01R33/38;A61B5/055 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 马浩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 磁共振 成象 装置 mri 磁场 生成器 | ||
1.一种用于MRI的磁场生成器,它具有一对在空间中互相对立且在空间中产生一个磁场的极靴,其中
该极靴具有一种叠合结构,其中从空间侧面把一个软铁氧体和一个磁性材料基体叠装,及
在该软铁氧体与该磁性材料基体之间插入一个低磁导率和高电阻层。
2.根据权利要求1所述的用于MRI的磁场生成器,其中该低磁导率和高电阻层具有大约为1的磁导率和至少等于该软铁氧体电阻率的电阻率。
3.根据权利要求2所述的用于MRI的磁场生成器,其中该低磁导率和高电阻层具有大于0.2Ω·m的电阻率。
4.根据权利要求2所述的用于MRI的磁场生成器,其中该低磁导率和高电阻层是至少由合成树脂层、陶瓷层、硬木层、纤维板层和空气层之一构成的。
5.根据权利要求3所述的用于MRI的磁场生成器,其中该低磁导率和高电阻层是由电木制成的。
6.根据权利要求1所述的用于MRI的磁场生成器,其中该软铁氧体是一种Mn-Zn型软铁氧体或Ni-Zn型软铁氧体。
7.根据权利要求1所述的用于MRI的磁场生成器,其中该磁性材料基体是由电磁软铁或纯铁制成的。
8.根据权利要求1所述的用于MRI的磁场生成器,其中该软铁氧体是一种Mn-Zn型软铁氧体,该低磁导率和高电阻层是由电木制成的,且该磁性材料基体是由纯铁制成的。
9.根据权利要求1所述的用于MRI的磁场生成器,其中该磁性材料基体呈盘形,且一个包括一个有着一个或多个径向槽的磁性材料环的环形突出体,装于该极靴的面向间隙的表面上。
10.根据权利要求1所述的用于MRI的磁场生成器,其中该磁性材料基体呈长方板形,且一些由磁性材料制成的每个都呈长方条形的突出体被装在该极靴面向空间的表面轴向两端。
11.根据权利要求1所述的用于MRI的磁场生成器,其中该软铁氧体、该低磁导率和高电阻层与该磁性材料基体中的每个厚度之间的比值是5-50∶0.5-5∶10-50。
12.根据权利要求1所述的用于MRI的磁场生成器,其中
在该软铁氧体和该磁性材料基体之间还夹有一些叠片硅钢片,且
所述低磁导率和高电阻率层插入在该软铁氧体与该叠片硅钢片之间。
13.根据权利要求12所述的用于MRI的磁场生成器,其中该低磁导率和高电阻层具有大约为1的磁导率和至少等于该软铁氧体电阻率的电阻率。
14.根据权利要求13所述的用于MRI的磁场生成器,其中该低磁导率和高电阻层具有大于0.2Ω·m的电阻率。
15.根据权利要求12所述的用于MRI的磁场生成器,其中该低磁导率和高电阻层是至少由合成树脂层、陶瓷层、硬木层、纤维板层和空气层之一构成的。
16.根据权利要求15所述的用于MRI的磁场生成器,其中该低磁导率和高电阻层是由电木制成的。
17.根据权利要求12所述的用于MRI的磁场生成器,其中该软铁氧体是一种Mn-Zn型软铁氧体或Ni-Zn型软铁氧体。
18.根据权利要求12所述的用于MRI的磁场生成器,其中该硅钢片由一种定向硅钢片或非定向硅钢片组成。
19.根据权利要求12所述的用于MRI的磁场生成器,其中该叠片硅钢片的磁导率等于或大于该软铁氧体的磁导率。
20.根据权利要求12所述的用于MRI的磁场生成器,其中该磁性材料基体是由电磁软铁或纯铁制成的。
21.根据权利要求12所述的用于MRI的磁场生成器,其中该软铁氧体是一种Mn-Zn型软铁氧体,该低磁导率和高电阻层是由电木制成的,该磁性材料基体是由纯铁制成的,而该叠片硅钢片是非定向的硅钢片。
22.根据权利要求12所述的用于MRI的磁场生成器,其中该磁性材料基体呈盘形,且一个包括一个有着一个或多个径向槽的磁性材料环的环形突出体,被装于该磁极靴的面向间隙的表面上。
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