[发明专利]涂料用树脂组合物无效

专利信息
申请号: 95105561.5 申请日: 1995-06-08
公开(公告)号: CN1114334A 公开(公告)日: 1996-01-03
发明(设计)人: 大垣敦;大杉宏治;田边久记;西村好郎 申请(专利权)人: 日本涂料株式会社
主分类号: C09D133/00 分类号: C09D133/00
代理公司: 柳沈知识产权律师事务所 代理人: 范明娥
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 涂料 树脂 组合
【说明书】:

本发明涉及一种树脂组合物,尤其是一种涂料用树脂组合物。

用于保护例如建筑物外墙的薄膜必须具有优良的耐久性和优良的耐风蚀能力。作为制作这种薄膜的涂料用树脂,已知的是含大量的硅酮树脂的树脂组合物。例如,一种包含掺有醇式羟基的聚有机硅氧烷树脂的丙烯酸或聚酯树脂的涂料用树脂已公开于JP—A—2—64181(术语“JP-A”用于本文系指“未审查的公开日本专利申请”)。

除了耐久性和耐风蚀能力外,上述薄膜还必须具有作为保持其外观作用的抗污染性能。通常由于认为薄膜的抗污染性能与该薄膜的粘着性和静电性质紧密相关,所以着眼于这些要素试图改进薄膜的抗污染能力。例如,提出了一种设计,在这种设计中薄膜的粘着性由于其硬度的提高而降低,因此从物理上抑制了污染物免于粘附在所述薄膜上。提出的另一种设计包括往涂料中加入诸如碱金属锍盐之类的有亲水性质的制剂,以形成一种静电性能下降的薄膜,由此抑制了污染物静电粘附在薄膜上。

然而,就粘着性或静电性能而论,薄膜抗污染性能方面的改进总的来说常会引起薄膜特性包括耐风蚀能力、粘着性和柔韧性下降。例如提高薄膜硬度导致该薄膜的柔韧性下降,而借助亲水制剂使薄膜的静电性能降低的同时,由于往所述涂料中加入亲水剂而导致该膜耐风蚀能力和粘着性变坏。因此要保持薄膜需要的一般性能的同时改进薄膜的抗污染性质是困难的。

尽管已经提出了通过调节该薄膜的表面粗糙性以改进薄膜的抗污染性能,但该技术仅有效于使该薄膜的污染作用不太显著而已,因此,不能成为本质上改进抗污染性能的一种手段。

本发明的目的在于改进薄膜的抗污染性能,同时保持通常薄膜所必须的性能包括耐风蚀能力。

本发明涂料用树脂组合物包括硅酮化合物(A)、含羟基的树脂(B),以及具有能与羟基反应的官能团的交联剂(C)。硅酮化合物至少是选自平均组合物通式(1)、(2)、(3)和(4)表示的硅酮化合物中的一种化合物。含于至少一种硅酮化合物和含羟基树脂中的至少部分官能团是以盐的形式存在。在上述通式中,A至少是一种有机残基,它选自由下列化学式(ⅰ)、(ⅱ)和(ⅲ)表示的有机残基中,所述化学式为:

B是—CH2CH2CH2OCH2CH2OH,

X是3—丙烯酰基丙氧基或3—甲基丙烯酰基丙氧基,

Y是一价取代基,它至少含有选自—COOH、—SO3H、和—NR22(其中R2是有机残基)中的一种基团。

R1是芳基,芳烷基,或具有1~6个碳原子烷基,和

a、b、c和d各为下列重复单元数。

1≤a≤20

0.5≤b≤3

1≤c≤10

0<d≤6

在这种涂料用树脂组合物中,部分或全部硅酮化合物可与部分含羟基树脂键合以形成硅酮改性树脂。

含羟基的树脂具有的羟值例如从20到300(特别好是从40到120)。

硅酮化合物(A)与羟基化的树脂(B)的混合比((A)∶(B))为例如3∶97—70∶30(特别好的是5∶95-40∶60)。

硅酮化合物(A)

用于本发明的硅酮化合物可用平均组合物通式(1)、(2)、(3)和(4)表示。在本发明中,这些硅酮化合物或单独使用或者两种或更多种一起使用。

在这些硅酮化合物中,A至少是一种选自下列通式(ⅰ)、(ⅱ)和(ⅲ)表示的有机残基中的有机残基。

B是按下化学式表示的基团,

—CH2CH2CH2OCH2CH2OH

X是3—丙烯酰基丙氧基或3—甲基丙烯酰基丙氧基。 Y是一价的至少含一种选自—COOH、—SO3H和—NR22中基团的取代基。用Y表示的该基团可以是直链的也可以是支链的。R2优选是含氢的有机残基。该有机残基没有特别的限制,其实例包括烷基如甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、仲丁基和叔丁基。两种或更多种X和两种或更多种Y可含在一个硅酮化合物中(也就是说,由X表示的两种或多种不同的基团和由Y表示的两种或多种不同的基团可能都存在)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本涂料株式会社,未经日本涂料株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/95105561.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top