[发明专利]一种处理液晶显示元件取向膜的方法和一种制备液晶显示元件的方法

权利要求书

1．一种处理液晶显示元件的取向膜的方法，其特征在于对由在一个带有透明电极的透明基底上形成的有机高分子化合物组成的取向膜进行磨擦处理，然后在气体中用能量为1.25到9.5keV的软X射线照射所说取向膜2秒钟或更长时间。

2．如权利要求1的处理液晶显示元件的取向膜的方法，其特征在于软X射线的能量为4到9.5keV。

3．如权利要求1的处理液晶显示元件的取向膜的方法，其特征在于取向膜和软X射线的起始点之间的距离等于或小于1500mm。

4．一种制备液晶显示元件的方法，包括如下步骤：在一对透明基底上设置一个透明电极，在所说透明电极上形成一个由有机高分子化合物组成的取向膜，通过磨擦处理来处理所说取向膜，经一个隔离物彼此面对地组装基底，然后密封一种液晶材料，其特征在于对取向膜进行磨擦处理，然后在气体中用能量为1.25到9.5keV的软X射线照射所说取向膜2秒或更长时间。

5．如权利要求4的制备液晶显示元件的取向膜的方法，其特征在于在使用液晶取向设备进行磨擦处理的期间和/或在此之后，用软X射线照射所说取向膜，该取向设备包括：一个平行于透明基底表面并和基底表面保持可变距离的圆柱形滚轮、一个借助于转动另一个滚轮沿特定方向向所说透明基底相对移动所说前一个滚轮的驱动装置、以及一个软X射线照射装置。

6．如权利要求4的制备液晶显示元件的方法，其特征在于使用了一种清洁和烘干设备，该设备配有：在该设备中传送透明基底的一个传送部分、可向基底喷出压力为1到5kg/cm²的洁净空气并且还可抽吸不必要物质的一个清洗和烘干部分，并且还使用了一个软X射线照射装置，它能在相对于透明基底成5°到180°之间的一任选角度发出软X射线。

7．如权利要求4的制备液晶显示元件的方法，其特征在于使用了一种清洁和烘干设备，该设备配有第一和第二软X射线照射装置，这两个软X射线照射装置可分别在清洁和烘干部分的前、后位置发出软X射线。

8．如权利要求4的制备液晶显示元件的方法，其特征在于使用了一种清洗和烘干设备，它配有可电离要喷向透明基底的洁净空气的一个软X射线照射装置。

9．如权利要求4的制备液晶显示元件的方法，其特征在于使用一种清洗和烘干设备，该设备配有：可按风刷方式向透明基底喷出洁净气体的一个喷嘴、带有可抽吸不必要物质的抽吸窗口的一个抽吸装置、以及一个软X射线照射装置。

10．如权利要求4的制备液晶显示元件的方法，其特征在于使用了一种清洗和烘干设备，该设备配有一个软X射线照射装置，该照射装置可改变透明基底和从喷嘴喷出的气流之间的角度，改变的范围是30°-60°。

11．如权利要求4的制备液晶显示元件的方法，其特征在于软X射线的能量为4到9.5keV。

12．如权利要求4的制备液晶显示元件的方法，其特征在于取向膜和软X射线的起始点之间的距离等于或小于1500mm。

13．如权利要求4的制备液晶显示元件的方法，其特征在于液晶材料是包含至少一种由通式(2)或通式(3)表示的化合物的液晶混合物：其中R₁和R₃彼此无关，并且代表具有1到10个碳原子的直链烷基或具有2到10个碳原子的链烯基；R₂和R₄彼此无关，并且代表具有1到10碳原子的直链烷基或烷氧基、-CN、一个氟原子、一个氯原子、-CF₃、-CHF₂、-OCF₃或-OCHF₂；S₁、S₂、S₃和S₄彼此无关，并且代表一个氢原子、一个氟原子、一个氯原子、-CF₃、-CHF₂、-OCF₃或-OCHF₂；Z₁、Z₂和Z₃彼此无关，并且代表-COO-、-CH₂CH₂-、-C≡C-、或一个单键；A₁、A₂和A₃彼此无关，并且代表：