[发明专利]阴离子酸性染料、其制备方法及应用无效

专利信息
申请号: 95107363.X 申请日: 1995-06-19
公开(公告)号: CN1066178C 公开(公告)日: 2001-05-23
发明(设计)人: U·劳克 申请(专利权)人: 希巴特殊化学控股公司
主分类号: C09B67/22 分类号: C09B67/22;C09B43/16
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 孙爱
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 阴离子 酸性染料 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种下式所示的阴离子酸性染料式中:R1和R2相互独立地为氢原子或C1-C4烷基,B1是下式所示桥连结构:-NR9-E2-NR10-    (5a),式中:

R9、R10和R11相互独立地为氢原子或者未取代或被羟基或C1-C4烷氧基取代的C1-C8烷基,

R12和R′12相互独立地为氢原子、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C2-C4烷酰氨基、卤原子、磺基或羧基,以及

E2和E3相互独立地为C2-C8亚烷基,该亚烷基是未取代的或被羟基或C1-C4烷氧基取代、并且链中可插有1或3个-O-基团,或者为C5-C7亚环烷基、C5-C7亚环烷基-(C1-C8)亚烷基或C1-C8亚烷基-(C5-C7)亚环烷基,这些基团中的环烷基上可被C1-C4烷基取代,

A1和A2相互独立地为单偶氮或双偶氮染料的基团或者金属配位偶氮染料的基团,

n为0或1,以及

Y1和Y2相互独立地为下式所示基团

式中:

R7和R8相互独立地为氢原子或者未取代或被羟基、C1-C4烷氧基、卤素、氨基或硫酸根合取代的C1-C8烷基,和R′8是氢或未取代或被C1-C4烷氧基、卤素、氨基或硫酸根合取代的C1-C8烷基,

E1是未取代的或被羟基、C1-C4烷氧基、卤素、氨基或硫酸根合取代的C2-C8亚烷基,该亚烷基链中可插有1到3个-O-基团,未取代的或在亚烷基上被羟基或C1-C4烷氧基和/或在环烷基环上被C1-C4烷基取代的C5-C7亚环烷基,未取代的或在亚烷基上被羟基或C1-C4烷氧基和/或在环烷基环上被C1-C4烷基取代的C5-C7亚环烷基-(C1-C8)亚烷基或未取代的或在亚烷基上被羟基或C1-C4烷氧基和/或在环烷基环上被C1-C4烷基取代的C1-C8亚烷基-(C5-C7)亚环烷基。

2.根据权利要求1的阴离子酸性染料,其中R1和R2是氢原子。

3.根据权利要求1或2阴离子酸性染料,其中n为0。

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