[发明专利]用于可转动磁控管的密封套

说明书

本发明总的涉及一种用于通过真空镀膜法涂覆基片制品的磁控管设备，更具体地说，是涉及用于其中的密封装置。本发明具体地说是涉及一种用于可转动的磁控管设备中的密封套和使用该设备的方法。

对大面积的基片、例如建筑玻璃、汽车挡风玻璃等的涂覆一直是通过使用了平面磁控管的真空镀膜法完成的。这种涂覆层包括多层广泛用在商用建筑玻璃上的防阳光涂覆层。由于待涂覆的玻璃具有大的表面积，涂覆机械设备在尺寸上就变得非常大。

近来，已研制出一种用于这种涂覆应用的可转动磁控管设备，以克服平面磁控管固有的众所周知的问题中的一些问题。一种可转动的磁控管在于1992年3月17授予Alex Boozenny和Josef T.Hoog的美国专利5096562号中作了描述，该专利的全部公开内容通过引用结合在本文中。 

可转动或旋转磁控管的工作过程一般包括使一个大致圆筒形的真空镀膜靶在高度真空中绕一个静止的磁阵列转动，同时提供适当的流体冷却。这样，旋转磁控管一般需要一个转动驱动机构，允许靶绕磁阵列转动的轴承，和电气及冷却线路管道。

由于这种转动驱动机构和线路管道从周围的环境伸入真空室，旋转磁控管还需要使用环绕旋转驱动机构和电气及冷却线路管道的真空密封装置。虽然为此已经使用了真空旋转水密封装置，但是这种密封装置往往会在高温和高机械载荷的条件下产生泄漏。

在先前的旋转磁控管中，这种密封装置和轴承是直接放在一个密封外壳和一个可转动的靶芯管之间以实现一个动态密封装置。这样，密封外壳的内表面和芯管的外表面就构成该动态密封装置的密封表面，即磨损面。因此，先前的旋转磁控管的密封装置的构形使密封外壳和芯管受到极大的磨损，因而需要耗费时间和费用来拆卸和更换磨损的密封外壳和芯管。

此外，在先前的旋转磁控管中，靶结构的拆除和更换涉及到关键的真空密封装置的拆除、处理和更换。在这种处理使密封装置暴露于潮气及污物的同时，密封装置的更换还会有作不适当的重新装配的可能。这样，这些旋转磁控管的重新装配会使密封装置的整体性，即有效的真空镀膜法的关键内容，成为问题。

此外，拆除和更换这些旋转磁控管中的靶结构是复杂的并需要若干小时。这种效率不高的拆除和更换程序会导致为较小的最佳产品的产量耗费大量的劳力和生产成品。此外，在这种延长的拆除和更换期间内，涂覆室会暴露于周围环境，因而就暴露于潮气和污物。这种暴露对产品的质量和产量都是不利的。这样，在这种旋转磁控管的重新装配中，会造成不必要的生产成本，损失大量的生产时间，和产品的质量和产量会下降。

因此，本发明的目的是提供一种受保护密封装置的设计以便改善可转动磁控管中的密封装置的完整性。

本发明的另一个目的是提供一种密封套，其包括用于可转动的磁控管中的密封装置和其内的密封表面。

本发明的又一个目的是提供一种密封套，其便于效率高地拆除和更换可转动磁控管的密封装置和密封表面。

此外，本发明的再一个目的是提供一种效率高地拆卸和更换可转动磁控管的密封装置和密封表面。

本发明通过提供一种预制的整体密封套以便在真空室和周围环境之间提供一个受保护的真空密封装置的方式改善可转动的磁控管。具体地说，该密封套设计成提供一个真空密封装置，该密封装置相对于可转动磁控管的密封外壳和可转动的靶芯管是静止的，而不是动态的。该密封套还设计成罩住一个内真空密封装置，该内真空密封装置相对于密封套的内表面是动态的。用这种方法，密封套在密封外壳和可转动的靶芯管之间提供一个静态密封装置的同时还罩住受保护的动态密封装置的耐磨面。

因此，本发明的整体的密封套一般包括一个接触密封外壳的外壳层和一个接触可转动磁控管设备的可转动靶芯管的内壳层。为了准备涂覆，外壳层和内壳层分别相对于密封外壳和靶芯管可转动地固定起来。整体的密封套还包括内壳层和外壳层之间的一个环形空间，内侧真空密封装置和轴承就装在该空间内。当密封套从内侧携带真空密封装置时，密封套壳层的内表面构成真空密封装置的耐磨面，而不是密封外壳和靶芯管的表面。这样，本发明的整体密封套就保护可转动磁控管中的密封外壳和靶芯管免于磨损并增加它们的寿命。

除了防护可转动磁控管的昂贵的部件之外，整体的密封套还可保护内侧密封装置免受潮气和污物的接触，并省去这些真空密封装置的各自装配。这样，密封套就提供了一个受保护的密封装置的设计，该设计能改善可转动磁控管的密封整体性。