[发明专利]变形压电陶瓷器件无效
申请号: | 95109897.7 | 申请日: | 1995-08-23 |
公开(公告)号: | CN1037643C | 公开(公告)日: | 1998-03-04 |
发明(设计)人: | 刘承;杨国光;舒晓武;朱成武 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | H01L41/083 | 分类号: | H01L41/083;H01L41/09 |
代理公司: | 浙江大学专利代理事务所 | 代理人: | 张法高 |
地址: | 310027*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 变形 压电 陶瓷 器件 | ||
本发明涉及压电陶瓷器件,尤其涉及变形压电陶瓷器件。
压电陶瓷器件具有尺寸小,线性好,可控制,全固化的特点。但是常规压电陶瓷制成的器件变形量都很小,因此它的应用范围受到一定的限制。一般用压电陶瓷制成的偏转器摆角在θ=10~30°左右,制成的位移器位移量为微米级(并且在外观尺寸上,普通压电陶瓷器件也偏大,例如:常规PZT器件,当位移量为1微米时,其尺寸大致为20×20×50mm)。
为了实现大位移,通常有以下几个方法:
1.采用多个压电器件构成叠堆:利用压电陶瓷的纵向效应产生变形,将各片压电元件的变形量串联叠加以获得较大的位移量。在工作电压的作用下,工作电场方向平行于极化方向,各片陶瓷的变形方向相同。
压电叠堆端面的总位移量为:
x=N·d33·V
N为压电叠堆压电单元器件的个数
d33为压电材料的压电常数
V为压电叠堆的工作电压用该种方案可获得的位移量最大可达20~30μm
2.采用位移放大机构将压电变形形成的位移放大后输出。因为用第一种方案可获得的位移量仍是较小的,所以进一步采用杠杆等放大机构,将位移放大后输出,可以获得更大的位移量。
本发明的目的是提供一种尺寸小、大摆角、大位移量的大变形压电陶瓷器件。
为了达到上述目的,本发明采取下列措施。它具有压电陶瓷双晶片,压电陶瓷双晶片具有正变形压电陶片1和负变形压电陶瓷片2,各压电陶瓷双晶片在输出端与相邻的压电陶瓷双晶片经垫片3刚性联接,组成压电陶瓷双晶叠堆,相邻两压电陶瓷双晶片的变形方向相反。
本发明的优点是:
1.变形动态范围大:不同于传统的压电变形器件,它可在一定频率内以任意波形工作,变形幅度可达1毫米以上,变形角可达8°(20℃)。
2.体积小,重量轻。
3.工作温度范围大:该器件的工作温度范围为60~-200℃。无复杂的机械结构,工作时靠PZT材料变形产生线位移和角位移,不存在相对滑动或相对滚动的运动,不存在摩擦、润滑、间隙等传统光机扫描固有的缺陷;这些缺陷使其不能在低温下使用。因为压电材料的压电性在低温下依然存在,故在低温下仍可正常工作,这是该器件最大的特色。
4.精度及重复性好:因为该器件结构中无相对滑动运动,扫描运动是逆压电变形和弹性变形共同作用的结果,工作过程是一弹性变形的过程,不存在摩擦、间隙等问题,不会出现机械扫描中出现的摩损、晃动等情况,因而可以达到较高的精度和重复性。
5.响应快:PZT材料在工作电场建立后即可发生变形,其响应时间极快,从电场建立到压电材料产生变形所需时间为10-9秒量级。
6.功耗小:PZT变形过程通常可视为绝热过程,尤其于低频工作时自身损耗小,发热很小。该器件工作过程相当于电容器的充放电过程,其功率损耗主要是材料的介质损耗(主要原因是介质漏导因素)引起的,一般介质损耗为2~0.5%。
7.效率高:该器件工作时施加一个电压对应产生一个偏转角。PZT材料的电阻率很高而介电常数大,该器件可视为一个电容性器件,当该器件转到一个角度,维持该位置所需的功率很低。
8.驱动力大:该器件能承担较大的负载,可推动约1公斤重的反射镜工作。
9.该器件产生的电磁干扰小:因为压电陶瓷是以电场作用工作的,而电场限制于器件的内部,因此对外界的干扰小。
下面结合附图作详细说明:
图1是变形压电陶瓷器件结构示意图;
图2是变形压电陶瓷器件纵向变形原理示意图;
图3是单组变形压电陶瓷器件形成的PZTA结构示意图;
图4是差动变形压电陶瓷器件形成的PZTA结构示意图;
变形压电陶瓷器件的压电陶瓷片厚度为0.2~8mm,通常为0.4~0.8mm,长度为4~60mm,通常为10~30mm。压电陶瓷采用锆钛酸铅(PZT)系压电陶瓷,正变形压电陶瓷片与负变形压电陶瓷片采用DW-1低温胶粘接或采用压电陶瓷烧结联结。各陶瓷双晶片刚性联接所用的垫片采用锆钛酸铅系压电陶瓷,铝,铜材料。
本发明的工作原理如下:变形压电陶瓷器件为压电陶瓷双晶片叠堆结构,各压电陶瓷双晶片产生的角变形串联迭加,同时也将各片的位移迭加,各陶瓷双晶片在输出端点与相邻的双晶片刚性联结,相邻两个陶瓷压电双晶片的变形方向相反,这样陶瓷双晶片之间的角位移相合叠加,最终在叠堆的输出端获得较大的角位移和线位移输出。
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