[发明专利]一种低温镀复金刚石薄膜的方法及设备

权利要求书

1.一种镀复金刚石薄膜的方法，其特征是以一氧化碳和氮混合气体为气源，应用高频等离子体化学汽相沉积法在衬底表面镀复金刚石薄膜。

2.根据权利要求1所述的镀膜方法，其特征是在低真空下，在两电极之间，一氧化碳和氮混合气体经高频放电作用而分解，使碳原子在衬底表面沉积，形成金刚石薄膜。

3.根据权利要求1或2所述的镀膜方法，其特征是在低于1000Pa的一氧化碳和氮混合气体的气压下，在1MHz-50MHz的高频放电作用下，在衬底表面镀复金钢石薄膜。

4.根据权利要求1或2所述的镀膜方法，其特征是一氧化碳和氮混合气体中，一氧化碳与氮气的体积比是1比2至1比10。

5.根据权利要求4所述的镀膜方法，其特征是在混合气体中可以加入氩气，以降低反应气体的击穿电压。

6.根据权利要求1或2所述的镀膜方法，其特征是镀膜可以在室温至500℃下进行。

7.一种镀复金刚石薄膜的设备，其特征是主要有一个反应室，反应室为金属腔体结构，其中有两个电极，有进气管道，通过进气管道，混合气体可以进入反应室中，有一抽气管，通过抽气管，可以将反应室抽成真空。

8.根据权利要求7所述的镀膜设备，其特征是两电极之间的距离可以调节。

9.根据权利要求7和8所述的镀膜设备，其特征是在进气管的出口处可以加置一个气体分配装置。

10.根据权利要求7和8所述的镀膜设备，其特征是在反应室外，可以有加热衬底的加热器。