[发明专利]正负两用型重氮感光撕膜片

说明书

本发明涉及一种正负两用型重氮感光撕膜片。

感光撕膜片是地图制印生产中不可缺少的关键材料之一，主要用于地图普染蒙片的制作。同时，它还可用于印刷线路板、彩色印刷中的蒙片制作等方面。关于重氮感光撕膜片，目前已有正性(正-正型)和负性(负-正型)两种品种。《专用涂料》(战凤昌、李悦良等编，化学工业出版社，1988年)所述感光撕膜片系正性重氮感光撕膜片，由片基[1]、结合层[2]、撕膜层[3]和正性重氮感光层[4]构成，如附图1所示。其中，片基使用0.1～0.25mm厚的聚酯薄膜；结合层使用的是丙烯酸树脂，用于改善撕膜层与片基之间的结合力；撕膜层涂料由成膜物质、阻光染料、助剂及溶剂组成，成膜物质使用的是醇溶二元或三元共聚尼龙树脂，如已内酰胺、尼龙66盐、MXD-10(聚癸二酰间苯二撑二胺树脂)为45∶40∶15或己内酰胺、尼龙66盐、MXD-10为40∶40∶20或己内酰胺、尼龙66盐为6∶4的共聚树脂均可使用，阻光染料使用醇溶红，使用的溶剂是乙醇-水混合溶剂；感光层由光敏剂、成膜树脂、助剂和混合有机溶剂组成，光敏剂使用的是具有如下结构的重氮萘醌化合物：

美国专利U.S.Pat3,645,732中也提到了正性重氮感光撕膜片。其中，撕膜层使用对苯二酰己撑二胺、己二酰六撑二胺、己内酰胺为40∶30∶30的聚酰胺树脂作为成膜物质，混合使用醇溶红和醇溶黄两种染料，溶剂是甲醇、三氯乙烯等，并使用了1,2,6-己三醇、三羟基二苯甲酮作为助剂；感光层中光敏剂使用5-(1,2-邻重氮萘醌-4-磺酰基)-2-二苯甲酮，成膜剂是二聚合松香。

正性重氮感光撕膜片的感光成像原理是，叠加底片并用富有紫外线的强光源曝光后，受光部分的感光层产生光分解，显影中可为稀碱所溶解，从而使该部分的红色撕膜层裸露出来，并为腐蚀剂所腐蚀而呈现透明；非曝光部分的感光膜不为稀碱显影液所溶解，并保护下层的撕膜层免受腐蚀剂的作用。这样即得到了与原底片相一致的图形。其使用操作工艺为：曝光-显影-水洗-腐蚀-水洗-干燥-修版-撕膜。关于正性重氮感光撕膜片的冲洗，中国专利88108606.1提出了一种新的方法。新方法所用冲洗液由显影剂(强碱)、辅助显影剂(中强碱)、腐蚀剂(碱金属的水杨酸盐)、助腐蚀剂(醇类有机溶剂)、软水剂以及表面活性剂组成。这样，曝光后的感光撕膜片在该冲洗液中可一次完成显影和腐蚀两个过程。应用这种新的冲洗方法，正性重氮感光撕膜片的使用操作工艺简化为：曝光-显像-水洗-干燥-修版-撕膜。

中国专利90109350.5公开了一种负-正型(即负性)重氮感光撕膜片，由片基[1]、结合层[2]和负性重氮感光层[5]构成，如附图2所示。其中，感光层中的成膜剂是水溶性聚乙烯醇，光敏剂是对重氮二苯胺与甲醛的缩合物。其感光成像原理是：叠加底片在紫外光下曝光后，受光处的光敏剂与聚乙烯醇产生交联而失去水溶性，未受光部分仍可为水所溶解，因此用水显影后得到与母片(阳片)相反的图形(阴片)。由于感光层的成膜剂是柔韧性良好的聚乙烯醇，因此感光层本身也可作为撕膜层。其使用操作工艺为：曝光-显影-染色-水洗-干燥-修版-撕膜。这种感光撕膜片稳定性不太好，曝光与显影宽容度低，尤其是感光层不能预染色，显影后还必须在染料溶液中作染色处理，易于造成环境脏污，因此实用性不强。

由于感光撕膜片最终必须作成阴像图形才能进行撕膜，因此，实际上正性重氮感光撕膜片只能用阴片作为翻晒母片，负性感光撕膜片只能用阳片作为翻晒母片。

上面所述的感光撕膜片，要么只具有正-正型成像特性，适于用阴像底片作为翻晒母片；要么只具有负-正型成像特性，适于用阳像底片作为翻晒母片。在遇到阴、阳两种底片分别需要晒制撕膜片时，一种办法是分别购买和使用正、负两种类型的感光撕膜片。而两种材料的冲洗加工体系不同，必须分别配制、使用和保存两种加工体系所需的溶液，使用中很不方便；另一种办法是通过拷贝将底片统一制成阴片或阳片，再选择某一种(正性或负性)感光撕膜片使用。这种办法增加了一道拷贝工艺，并提高了生产成本。此外，上述两种类型的感光撕膜片，为了保证撕膜附着力的适宜性，或者为了改善涂布性能，都采取了在片基上打底层的办法，也增加了涂布工艺，提高了生产成本。

本发明的目的是提供一种兼有正性和负性两种感光成像特性的重氮感光撕膜片，使之能适于用阴像和阳像两种底片直接翻晒撕膜片，以方便作业，降低成本。同时还将克服原有正性及负性重氮感光撕膜片在其它方面存在的一些不足，如生产制作中需要打底层，使用加工中性能不稳定、工艺宽容度低等问题。