[发明专利]信息记录介质无效
申请号: | 95115835.X | 申请日: | 1995-07-25 |
公开(公告)号: | CN1066560C | 公开(公告)日: | 2001-05-30 |
发明(设计)人: | 今泷宽之 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈季壮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 信息 记录 介质 | ||
本发明涉及一种用于存储和/或重放信息的信息记录介质。
近年来,作为具有高记录密度的信息记录介质,例如象光盘,光卡等等这样的光记录介质的研究和开发已经被广泛地进行。这些光记录介质的例子包括象致密盘(CD)这样的只重放型的介质,和象CD-R和磁光盘这样的能够附加地写入和/或删除信息的介质。
在只重放型光记录介质的情况下,通过在一个衬底中形成的信息的结构能够影响信息的质量。例如,在以凹形和凸形的形式记录信息和利用它们的相位差重放该信息的光记录介质的情况下,待检测的信息信号受到凹形和凸形的三维形状的影响。能够附加地写入和/或删除信息的光记录介质在一个衬底上也具有用于记录、删除和重放信息的跟踪槽,和象用于数据管理和同步信号这样的与用于格式的信息对应的预坑(此后将把在衬底中预成形的信息,包括跟踪槽和预坑称为″预成型″)。
作为用于形成这样一种光记录介质的记录层的方法,已经公知了一种利用汽相淀积过程的方法,例如真空沉积或溅射,和一种涂覆一种涂覆液的方法(此后称为″湿涂法″)。特别是利用湿涂法形成记录层的方法是一种引人注意的方法,因为能够以低成本来形成记录层。然而,在利用湿涂法在一个在其上已形成了象跟踪槽和预坑这样的预成型的衬底上设置记录层的情况下,在凹形中聚集了涂覆液,并由此导致涂覆层在厚度上变为不均匀。在利用湿涂法在一个衬底上设置包括一种着色剂的记录层的情况下,该衬底的表面和该衬底中的凹形在记录介质的厚度上相互有差别,并因此在某些情况下它们具有不同的反射率。在具有一个常规的预成型的衬底上设置记录层,该预成型以记录层被形成为前提被设置以便能够在凹形和凸形上获得相同反射率的情况下,不能够获得充分的对比度。
为了解决这种问题,本发明的申请人在日本专利申请公开号1-23434和2-257444中已经公开了甚至当利用湿涂法形成记录层时能够提供极好对比度的信息记录介质。特别是本发明的申请人在后一个申请中已经公开了一种能够达到高对比度的信息记录介质,它是利用由湿涂法形成的记录层的特征,即在预成型的凹形上形成的记录层比在与其相邻的凸形上形成的记录层更厚,如在图5A中所示,和改进凹形预成型的截面形状来获得高对比度的。然而,这种信息记录介质能够引起在它的记录区域的中心部分和周边部分之间存储的信息的重放信号的对比度的分散。
特别是,当重放记录区域的周边部分的预成型时,可以获得一种如在图5A和5B中所示具有W型形状的波形的重放信号。这样一种型式使对比度更坏。虽然观察到这种信号型式的原因不能清楚地理解,但是它被认为是由于下面原因造成的,即:在记录区域的周边部分上形成的记录层比在记录区域的中心部分上形成的记录层更薄的情况下,在预成型的凹形中没有填满用于光反射层的足够量的材料,因此预成型凹形底部的记录层的厚度变得比在预成型凹形中光反射层表现最小反射率的厚度更薄。
虽然这个问题在某种程度上能够被解决,例如,通过严格地控制干燥条件,但是由干燥条件中的细微变化可以引起重放信号中对比度的变化。此外,这种干燥条件的严格控制也构成了使这种信息记录介质的成本增加的原因。
考虑到上述的现有技术,本发明的一个目的是提供一种信息记录介质,该信息记录介质在它的整个记录区域上能够提供均匀和极好对比度的信号,和一种用于在记录介质上记录和重放的方法。
根据本发明的一个方面,提供一种用光辐射束照射的信息记录介质,包括:一个具有一个设置有预成型的表面的衬底,该预成型包括一个跟踪轨迹并在横截轨迹的方向上形成一种截面形状,该截面形状包括一个设置在两个凸形之间的凹形,每个凸形有一个平顶,和一个通过把一种涂覆液施加在该衬底的表面所形成的光反射层,其特征是凹形具有一个开口梯形的截面形状,该开口梯形具有一个矩形部分,梯形部分具有一对平行相对的边和一对构成该梯形部分的壁的斜边,构成梯形部分的底部的一个平行边比相对的一边更短,并且矩形部分与构成梯形部分的底部的边邻接。
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