[发明专利]对工件进行光学处理的准分子激光束辐照装置

权利要求书

1.一种用准分子激光束对工件进行处理的准分子激光束辐照装置，其特征在于，它包含：

一准分子激光振荡器，用来辐射一准分子激光束；

一具有透光部分和反射层的图形掩模，所述透光部分用来使所述准分子激光振荡器辐射的所述准分子激光束能够从中通过，所述反射层用来反射所述准分子激光束，所述透光部分形成一在所述工件上待形成的图形；

处于所述图形掩模的所述反射层相对位置上的反射装置，用来将从所述反射层反射的准分子激光束反射到所述图形掩模上，从而所述准分子激光束在反射装置和所述图形掩模之间经受多次反射，并发生位移；

一成像光学系统，用来将透过所述图形掩模的准分子激光束图形成像到它所辐照的所述工件上；

一工件移动机构，用来沿与所述成像光学系统的光轴正交的方向移动所述工件；

一掩模移动机构，用来沿与所述成像光学系统的光轴正交的方向移动所述图形掩模；以及

一控制装置，用来控制所述准分子激光振荡器；所述工件移动机构和所述掩模移动机构；

其中，所述控制装置控制所述工件移动机构和所述掩模移动机构，从而所述图形掩模和所述工件沿同一轴相互同步位移，用所述准分子激光束在一同步扫描位移期间沿一扫描移动方向扫描所述工件，所述扫描移动方向与所述准分子激光束在所述图形掩模和所述反射装置之间经受多次反射时发生平移的方向重合。

2.如权利要求1所述的准分子激光束辐照装置，其特征在于，

所述准分子激光振荡器和所述反射装置位置固定，

所述反射装置和所述图形掩模的位置大体相互平行；以及

所述准分子激光束以一预定的倾斜角投射到所述图形掩模上，而不受所述反射装置的干扰；

其中，所述图形掩模和所述工件在所述同步移动位移期间沿同一轴相互作相向移动。

3.如权利要求1所述的准分子激光束辐照装置，其特征在于，

所述控制装置控制所述工件移动机构和所述掩模移动机构，从而用所述准分子激光束进行扫描的所述图形掩模和所述工件同步位移的距离比所述图形掩模有效图形区域的长度长，在所述图形掩模中形成要成像到所述工件上去的图形。

4.如权利要求1所述的准分子激光束辐照装置，其特征在于，

所述控制装置对开始所述同步扫描位移的所述图形掩模和所述工件的位置分别作出选择，从而至少在与所述准分子激光束照射的工件的某一区域对应的距离上，在所述同步扫描位移期间使所述图形掩模和所述工件以一稳定速度发生位移。

5.如权利要求1所述的准分子激光束辐照装置，其特征在于，它还包含：

速度测定装置，用来在所述同步扫描位移期间检测所述图形掩模和所述工件移动的速度；

其中，所述控制装置被设计成，当所述速度测定装置检测到在所述同步扫描位移期间所述图形掩模和所述工件发生位移的扫描移动速度在用所述准分子激光束照射的区域发生变化时，所述控制装置控制所述准分子激光振荡器的振荡重复频率，从而当所述扫描移动速度小于某一预定速度时，使所述振荡重复频率降低到一预定频率以下，而所述控制装置控制所述振荡重复频率，从而当所述扫描移动速度大于所述预定速度时，所述振荡重复频率增高到所述预定频率以上。

6.如权利要求1所述的准分子激光束辐照装置，其特征在于，它包含：

与所述控制装置相关配置的厚度测定装置，用来测定所述工件的厚度；

其中，所述控制装置被设计成，当所述厚度测定装置在所述同步扫描位移期间检测到所述工件厚度变化时，所述控制装置控制所述准分子激光振荡器的振荡重复频率，从而当所述工件的厚度大于某一预定厚度时，所述振荡重复频率增高到某一预定频率以上，而所述控制装置控制所述振荡重复频率，从而当所述工件厚度小于所述预定厚度时，所述振荡重复频率降低到所述预定频率以下。

7.如权利要求6所述的准分子激光束辐照装置，其特征在于，如此选择所述预定频率和所述预定厚度，使得当所述工件在所述同步扫描位移期间以一给定速度移动时，可以用具有所述预定频率的所述准分子激光束均匀而稳定地处理具有所述预定厚度的所述工件。