[发明专利]电子照像光敏材料

说明书

本发明涉及电子照像的光敏材料，更准确地说涉及重复使用过程中具有优良耐久性和电学特性极其稳定的电子照像光敏材料。

用于电子照像光敏材料的光电导材料是无机光电导材料，如硒、硫化镉和氧化锌，或有机光电导材料如聚乙烯咔唑。如附图中的图1所示，单层光敏材料在电导性基体1上有单个光敏层20，它含有这样的光电导材料2。近年来，已研制出双层层压型光敏材料并付诸实施。后一种型式的光敏材料具有光敏层，它具有分成接受光和产生载荷子作用和迁移所产生的载荷子作用的光电导作用。也就是说，如图2所示，它们在电导基体1上有光敏层21，该层是由电荷产生层4和电荷迁移层6组成的层压制件，电荷产生层4含有电荷产生物质3，它能起到接受光而产生载荷子的作用，而电荷迁移层6含有电荷迁移物质5，它能起到迁移所产生的载荷子作用。

有机光电导材料具有许多优点，以致于可以获得种类繁多的材料并可按要求进行选择；成膜对于生产光敏材料来说是容易的；所得到的膜是挠性的；而且是经济的。因为具有这些优点，已经进行了积极地研究和研制，而且已经发现了使用这些材料的有机光敏材料的实际用途。已知实例包括如U.S.P.3,484,237中所述包含电荷转移配合物的单个光敏层的光敏材料，该配合物是由乙烯基咔唑和三硝基芴酮化合形成的；如日本专利申请公开号25658/1973所述具有染料敏化的光敏层的光敏材料；如日本专利申请公开号30328/1972和18545/1972中所述的光敏材料，该材料具有单个光敏层，光敏层包含分散于空穴转移剂或电子转移剂内的颜料；和如日本专利申请公开号105537/1974所述光敏材料，该材料具有双层层压型光敏层，光敏层主要由层压在一起的电荷产生层和电荷迁移层构成。在它们当中，双层的层压型光敏材料靠着优选其相应功能的材料制成相应薄层并结合在一起，很可能获得高的感光性和极好的特性。因此，正在急于研制这种类型的光敏材料。

在电子照像设备中，为获得影像，光敏材料通常要经过多步骤的循环，如电晕充电、影像曝光、显像、转印和清洗。在该过程中，要求光敏材料能显示稳定的特性。然而，至今所获得的有机光敏材料就其特性中的稳定性和重复使用过程中的耐久性来说并不完全令人满意。重复使用会引起表面电位下降(破坏充电性质)，像密度降低，最后会使光敏材料不能使用。

这类损坏的原因尚不清楚，而且牵涉到各种因素。目前，似乎可能的解释如下：已知电晕放电可以产生活化气体如臭氧和NOx。在成像过程中，光敏材料持续地暴露于电晕放电的环境中。这样，在这些气体的影响下发生了破坏作用。

为了避免这种影响，电子照像仪采用能消除电晕电荷周围气体的装置。然而，完全除去这些气体是困难的。

图2中示出了上述双层层压型的光敏材料，尤其是常常具有这样一种结构，该结构中电荷迁移层6叠加在薄的电荷产生层4上以保护它。对于目前使用中的有机电荷迁移剂来说，通常空穴作为载荷子迁移，而且所使用的上述结构的光敏材料是带负电荷的。负电晕放电会产生大量的活化气体如离子和NOx，使损坏的问题甚至更严重。

作为预防这一问题的方法，已知把各种抗氧剂加到光敏层中，例如日本专利申请公开号122444/1982提出加入受阻酚，日本专利申请公开号143763/1986推荐加大量受阻酚，而日本专利申请公开号105151/1987提出加特殊结构的受阻酚。作为使用受阻胺的实例，日本专利申请公开27693/1994和27694/1994提出加入受阻胺和专用电子接受体化合物。

使用这类抗氧剂可以一定程度地防止光敏材料由于气体如臭氧和NOx的影响而发生损坏。为了满足当前市场对长寿命光敏材料的需求，必须增强预防效果。

为满足这一需求完成了本发明。本发明的目的是提供一种电性能极好和甚至在长期的重复使用过程中显著改进了特性稳定性的光敏材料，采用的方法是往光敏层中的含空穴电荷迁移剂层中加特定的化合物。

根据本发明，通过把下列混合物掺入到至少提供在导电性基体上的一种含空穴电荷迁移剂的层中解决上述问题：

一种混合物，含有至少一种选自通式(A₁)的氢化苯偶姻化合物或通式(A₂)的氢化苯偶姻化合物(下文统称为A组化合物)的物质，和至少一种选自通式(B₁)的受阻酚或通式(B₂)的一组醌或通式(B₃)的氢醌(下文统称B组化合物)的物质：