[发明专利]用于磁光记录的磁头装置

说明书

本发明涉及用于磁光记录的磁头，该磁头具有一个滑动接触件，该件配置为磁光盘在与其滑动接触的同时径向地移动，以便把信息的信号记录在磁光记录装置和/或重放装置上。

迄今已经使用用磁光盘的磁光盘记录和/或重放装置，所说的磁光盘具有由在传光的透明基片上的垂直记录薄膜形成的磁光记录层。

就磁光盘记录/重放装置而言，作为用于照射磁光盘的磁光录入层的发射光束的光学拾取装置是面对由盘转动机构以转动运转的磁光盘的主表面之一配置。而用于把外界的磁场施加到磁光记录层的磁头装置则面对磁光盘相反的主表面配置。因此，所配置的光拾取装置和磁头装置把磁光盘插在其间。

就磁光盘记录/重放装置而言，磁场是通过磁头装置施加在转动的磁光盘的磁光记录层上，所说的磁场的方向按照记录的信息的信号调制，与此同时发自光拾取器的光束发射到磁光记录层上。部分的磁光记录层由于用光束照射，以便由此加热到高于居里温度而损失它的矫顽力，该部份按照由磁头装置所施加的磁场方向磁化。光束随磁光盘的转动相对移动，由此，磁光记录层的上面部份不再用光束照射，因此，它的温度将低于居里温度。信息的信号通过固定磁化方向记录。

而传统的磁光盘记录/重放装置，使磁头面向磁光盘，而不是在记录信息信号时与其接触，这是考虑到防止由于与构成磁头的金属芯(如铁氧体芯)滑动接触损伤磁光盘。

因此，传统的磁头装置配有一个电磁控制机构，用于使磁头追随磁光盘的表面偏离位移，以便使磁头支托在离磁光盘预定的距离上而不是与其接触，即使是在盘上由于翘曲或厚度起伏招致在磁光盘转动时的表面偏离时。

用配有电磁控制机构的磁头装置，为了把磁头紧随磁光盘的表面偏离而移动，以便使磁头保持在离磁光盘在预定的距离上，电磁控制机构必需由电力驱动，因此，增加了电力消耗。此外，还需要用于检测磁头和磁光盘间距离的检测机构，由此，使得用于控制磁头装置的机构复杂化。再之，记录/重放装置在结构上变的复杂，由此要减少装置本身的大小和厚度将会非常困难。

因此，已经提出了一种磁光盘记录/重放装置，在该装置中，提供了一种适合于与在转动时易于产生表面偏离的磁光盘滑动接触的磁头装置，配置该磁头装置取代适合用于把磁头控制在离磁光盘的预定距离上的磁头装置。

而在这种类型的磁光记录和/或重放装置中使用的磁头装置中磁头件装在具有与转动的磁光盘的主表面滑动接触的滑动接触件上，以便磁头件和磁光盘之间保持预定的距离。

装在滑动接触件上的磁头件具有一个用硬的材料，如铁氧体，制成的磁芯。如果该磁芯直接与磁光盘接触，磁光盘很容易损坏。由此，装有磁头件的滑动接触件具有一个滑动接触部份，在该部份上具有一个与磁光盘滑动接触的表面。所说的滑动接触部份从磁头件的远端上突出，因此，只有这滑动接触部份与磁光盘接触，而磁头件不会与磁光盘接触。另一方面，如图1所示，具有与装有磁头件的滑动接触件滑动接触的磁光盘1，在由传光的透明的聚碳酸酯树脂模塑成的磁光盘基片2的一个主表面上，包括一个磁光记录层3，一个由金属材料(如铝)制成的反射膜4和一个由UV医用树脂制成的保护膜5，它们按上述顺序叠置。磁光记录层3是由第一绝缘层，一磁记录层和第二绝缘层组成。

配置保护层5用于防止磁光记录层3或反射层4免受机械损伤和由于湿气和氧气的侵蚀。湿气或氧气腐蚀磁光记录层3或反射层4是在磁光盘的外周边缘上侵入，因此，保护层5在外周边缘1a上增加厚度，以便确实地覆盖磁光记录层3或反射层4。

如果保护膜5的外周边缘增加膜的厚度，磁光盘在外周边缘上增加厚度，使它明显的比内周边缘上增加的厚，这使得由磁头装置的滑动接触件滑动地接触盘的主表面将出现一个由盘的内周向外周倾斜的倾斜表面。因此，当滑动接触件向磁光盘1的外周移动时，除出滑动接触部份外的磁头件部份与磁光盘1的主表面接触，而滑动接触部份将离开磁光盘1的主表面被隔开。如果滑动接触件的滑动接触部份离开磁光盘1的主表面被隔开，磁头件和磁光记录层3之间的距离就不可能保持常值，这样，信息信号的正确记录就变得不可能。

此外，如果滑动接触件的滑动接触部份离开磁光盘的主表面被隔开，存在着部份的磁头件有可能与磁光盘1接触的危险，由此将会损坏保护层5。如果保护层5受到损坏，水或氧气就趋向于侵入磁光盘1，这样，磁光记录层3或反射层4就不可能有足够的保护。

因此，本发明的目的在于提供一种用于磁光记录的磁头装置，该装置使得能够保证滑动接触件在横过磁光盘的内外缘时与磁光盘正确的滑动接触，且使磁头件和磁光记录层3之间保持预置的恒定的距离，以便能够正确的记录信息信号。