[发明专利]磁性管溅射装置

权利要求书

1.一种磁控管溅射装置，其特征在于，在同一中心轴周围设置多块直径不同的环状平板靶；各靶中，在沿其内周缘部位置的表侧和里侧分别配置具有相同极性的磁铁，在其沿外周缘部位置的表侧和里侧分别配置具有相同极性的磁铁，并配设成使内周侧与外周侧极性相反。

2.一种磁控管溅射装置，其特征在于，在同一中心轴周围配置多块直径不同的环状平板靶；在沿第1平板靶的内周缘位置的表侧和里侧分别配置具有相同极性的磁铁，同时，沿该第1平板靶的外周缘位置的表侧和里侧分别配置具有相同极性的磁铁，且使沿第1平板靶的内周配设的磁铁与沿外周配设的磁铁的极性隔第1靶为相反关系；在第2平板靶中，也在沿其内周缘位置的表侧和里侧分别配设具有相同极性的磁铁，同时，在沿该第2平板靶的外周缘位置的表侧和里侧分别配置具有相同极性的磁铁，且使沿第2平板靶的内周配设的磁铁与沿外周配设的磁铁的极性隔第2靶为相反关系；第3靶和其它靶也以同样方式构成。

3.如权利要求1或2所述的磁控管溅射装置，其特征在于，用公共磁铁构成沿内侧平板靶的外周缘配设的磁铁及沿外侧平板靶的内周缘配设的磁铁。

4.如权利要求1或2或3所述的磁控管溅射装置，其特征在于，调整各磁铁的强度使在各靶的表面上，磁场方向与靶面平行的点在靶的半径方向存在2个以上。