[发明专利]匹配式多源频谱治疗仪在审
申请号: | 95119868.8 | 申请日: | 1995-12-26 |
公开(公告)号: | CN1132102A | 公开(公告)日: | 1996-10-02 |
发明(设计)人: | 王祥林;赵锡林 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨市频谱医疗技术开发有限公司 |
主分类号: | A61N5/06 | 分类号: | A61N5/06;C09K11/08 |
代理公司: | 哈尔滨市南岗区宗康专利事务所 | 代理人: | 赵宗康 |
地址: | 150010 黑龙江*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 匹配 式多源 频谱 治疗 | ||
1、一种匹配式多源频谱治疗仪,由可调支架(1)、电源控制盒(2)、接线板(3)、A发射源体(4)、B发射源体(5)、C发射源体(6)、D发射源体(7)、E发射源体(8)、反射板(9)和保护罩(10)构成,其特征在于:
a、发射源体加热片(13)为五块外形几何尺寸相同、电阻值不同的直热式碳化硅含量为(60~70)%的扁长方体陶瓷片,其背面为平面,正面为弧形柱面;
b、发射源体加热片(13)的背面、两侧及正面纵向中心线的一侧即50%的弧形柱面均涂有铝粉涂层(12);
c、发射源体上的中远红外涂料(11)的配比及范围(重量百分比):
A发射源体(4):三氧化二铝 15~25
二氧化硅 25~35
三氧化二铁 45~55
B发射源体(5):二氧化钛 30~40
二氧化锆 15~25
氧化锌 15~25
三氧化二铁 20~30
C发射源体(6):二氧化锆 15~25
二氧化硅 15~25
三氧化二镍 15~25
三氧化二铁 0~5
三氧化二铬 0~5
二氧化锰 15~20
氧化铜 10~20
D发射源体(7):三氧化二铬 60~70
二氧化硅 15~20
二氧化钛 15~20
E发射源体(8):二氧化钛 25~35
氧化锌 25~35
三氧化二铝 5~15
二氧化硅 15~25
二氧化锆 5~15
d、发射源体的工作温度范围:
A发射源体(4): 90℃~120℃
B发射源体(5):130℃~140℃
C发射源体(6):150℃~170℃
D发射源体(7):130℃~160℃
E发射源体(8):140℃~160℃
e、发射源体的安装配置:每个发射源体横向放置,各发射源体成纵向排列,其两端固定在接线板(3)上,A发射源体(4)、B发射源体(5)未涂铝粉涂层(12)的弧形柱面在下,D发射源体(7)、E发射源体(8)未涂铝粉涂层(12)的弧形柱面在上,C发射源体(6)未涂铝粉涂层(12)的弧形柱面在上或下。
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