[发明专利]阴极射线管用的曝光装置无效
申请号: | 95120158.1 | 申请日: | 1995-12-26 |
公开(公告)号: | CN1052108C | 公开(公告)日: | 2000-05-03 |
发明(设计)人: | 韩东熙 | 申请(专利权)人: | 三星电管株式会社 |
主分类号: | H01J9/227 | 分类号: | H01J9/227 |
代理公司: | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人: | 马莹 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阴极射线 管用 曝光 装置 | ||
本发明涉及阴极射线管用的曝光装置,特别涉及到用以将在荧光体周边形成的黑色基底固定粘着在屏盘内表面上的阴极射线管用的曝光装置。
通常,阴极射线管的制造工艺由以下各步构成:将其上已形成几十万个隙缝,厚约1~1.5mm的荫罩,通过挤压组装到玻璃制的屏盘上的工艺;除去吸附在上述屏盘和荫罩上的灰尘等杂质的清洁工艺;将PVA涂敷到上述屏盘内表面上以后,形成粘结固定的黑色基底的工艺;将红、绿、蓝色的荧光粉分别粘结固定到已形成上述黑色基底的屏盘的内表面上从而形成荧光粉膜的工艺;将反射膜蒸镀到上述荧光体的表面上的蒸镀工艺;将玻璃制的漏斗部封接到上述屏盘上形成阴极射线管的封接工艺;将有多个栅极和阴极的电子枪封入颈部的工艺;将上述阴极射线管排气成真空状态后使其密封的工艺;为防止上述阴极射线管的封接部爆炸,进行弯曲后再进行各种检测的检测工艺。
在以往这样的阴极射线管制造工艺中,用以在屏盘内表面上形成黑色基底的曝光装置如图1所示,它是如此构成的,即由汞灯构成的光源2装在主体1的内侧,可部分地遮断从上述光源照射的光的遮光器3能移动地设置在其上侧,用以校正在其上侧通过上述遮光器3的折射的红、绿、蓝校正透镜4用马达5带动能够转动。
进一步在上述校正透镜4的上侧设置用以控制所照射的光的照度比率的滤光器6,借助来自上述光源2的光进行曝光的屏盘P安装于在上述主体1的上侧形成的开口部1a上,有许多隙缝的荫罩M装在上述屏盘P的内侧。
在内侧面涂敷PVA并装有荫罩M的屏盘P安装到开口部1a的上侧后,来自光源2的光通过遮光器3、校正透镜4和滤光器6照射到屏盘P的内侧,这时,照射到上述屏盘P内侧的光通过荫罩M上的隙缝后,使涂敷在屏盘P内侧的PVA固着,从而形成了黑色基底。
可是,上述运样结构的公知的曝光装置在曝光时,因为要使红、绿、蓝各个校正透镜转动使之组合成一个光学系统后才能进行曝光,所需的曝光时间长,不但使生产率显著降低,而且还存在因所加工成的黑色基底的质量不一致导致全部产品的性能显著分散的问题。
以前,在日本专利公开公报平4-22043号中披露了形成彩色阴极射线管的黑色基底膜用的多种共用的曝光装置。
上述公报所公开的曝光装置如图2所示,它配备有:用以将装有荫罩M的屏盘P载置支承在内部规定位置的屏盘定位部7;用以组合两套曝光用的光学系统的各基色共用的第一透镜8a;用以与品种对应地变更各基色专用的第二透镜8b对屏盘P和光源的相对位置的互换型透镜架8;与品种对应地移动光源位置的光源驱动部9。它有能对多品种各自进行适当的曝光作业的结构。
但是,这样的现有技术,尽管希望与大小各不相同的多品种对应的品种转换操作能很容易地在非常短的时间内完成,但因为曝光时要一边移动红、绿、蓝各基色专用的透镜架一边曝光,曝光时间当然要长,生产率低,还由于黑色基底的质量不一致,而存在全部产品的质量参数显著分散等问题。
因而,本发明正是为了解决上述各种问题而完成的。本发明的目的是提供一种在一个装置中能顺序地进行红、绿、蓝曝光使曝光时间显著缩短,同时也能使生产率提高的阴极射线管用的曝光装置。
本发明的另一目的是提供一种能形成均匀一致的黑色基底从而使产品的品质一致的阴极射线管用的曝光装置。
为了达到上述目的,本发明提供一种阴极射线管用的曝光装置,用以将规定形状的黑色基底固着到屏盘的内表面上,其特征在于它配备有:
绿色用曝光区、蓝色用曝光区、和红色用曝光区,分别配备并顺次设置有:
将光向上述屏盘内照射的光源,
遮光器,
校正透镜,和
滤光器;
紧固装置,用以将安装在绿色、蓝色、红色用曝光区上侧的屏盘紧固或松开;
移送装置,使紧固装置沿横方向移动规定的距离,使被紧固的屏盘每次移动1节,其中上述横方向是指上述各曝光区所在的直线的方向,上述1节是指每个曝光区在上述直线上的长度。
而且,因为是将装在上述绿色、蓝色、红色用曝光区上侧的屏盘每移动1节顺序进行曝光,所以能显著缩短曝光时间,降低制造成本,还因为是在相同的条件下进行曝光,使在屏盘内表面上形成的黑色基底的品质保持一致,因而有使全部产品质量一致等效果。
图1是表示现有技术的曝光装置的实施例的示意图;
图2是现有技术曝光装置的另一实施例的侧视图;
图3是本发明的曝光装置的一实施例的侧视图;
图4是本发明曝光装置的平面图。
下面将按照附图3、4对本发明的一个实施例进行详细说明。
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