[发明专利]电照相设备无效
申请号: | 95120234.0 | 申请日: | 1995-12-07 |
公开(公告)号: | CN1132864A | 公开(公告)日: | 1996-10-09 |
发明(设计)人: | 江原俊幸;山崎晃司;唐木哲也 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G15/00 | 分类号: | G03G15/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 马浩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 照相 设备 | ||
1.一种电照相设备包括:
一个能够在其上承载调色剂的感光元件;
一个潜影形成装置,用于在所述的感光元件上形成潜影;
一个显影装置,用于采用调色剂把潜影显影成调色剂象;
一个转印装置,用于把在所述感光元件上形成的调色剂象在某一转印位置转印到转印材料中。
一个收集装置,用于在所述感光元件的一个表面通过所述转印位置以后从所述表面收集调色剂,所述收集装置包括一个旋转部件,该部件在某一接触位置与所述感光元件表面接触时旋转,并且所述旋转部件在所述接触位置在同所述感光元件移动方向相反的方向,以这样的方式旋转,即所述旋转部件在所述接触位置相对于所述感光元件表面的相对速度,变成所述感光元件表面移动速度的110%或更大;和
一个调色剂输送装置,用于把由所述收集装置收集的调色剂输送到所述显影装置,以便在所述感光元件上形成的潜影能够由所述收集装置收集的调色剂来显影;
2.根据权利要求1所述的电照相设备,其中所述旋转部件包含一个与所述感光元件接触的磁刷。
3.根据权利要求1所述的电照相设备,其中,当所述感光元件的厚度为d(mm),和所述感光元件表面的移动速度为V(mm/Sec)时,满足关系式d×V≥9。
4.根据权利要求3所述的电照相设备,其中所述感光元件表面的移动速度(V)是300(mm/sec)或更大。
5.根据权利要求4所述的电照相设备,其中在所述感光元件表面上至少形成一个突出物,并且所述突出物相对于除了所述伸出物的所述感光元件的表面水平的最大高度是0.01(mm)或更小。
6.根据权利要求5所述的电照相设备,其中调色剂的平均颗粒直径为0.004—0.011(mm)。
7.根据权利要求1所述的电照相设备,其中,当一个其极性与所述感光元件充电极性相反的电压施加到所述感光元件的表面时,引起所述感光元件绝缘破坏的所述电压的绝对值是500(V)或更高。
8.根据权利要求1所述的电照相设备,其中所述旋转部件,在所述接触位置在与所述感光元件表面移动方向相反的方向,以这样的方式旋转,即在所述旋转部件与所述感光元件表面之间的相对速度变成所述感光元件表面移动速度的400%或更大。
9.根据权利要求1所述的电照相设备,其中在25—45℃温度下的所述感光元件接收电位的温度依赖性的绝对值是0.5(%/℃)或更小。
10.根据权利要求9所述的电照相设备,还包括一个用于支持所述感光元件的导电底基,和一个置于所述感光元件表面附近的热源;并且其中所述热源用1—100(℃/Sec)的温度梯度来加热所述感光元件,使所述感光元件表面的温度变成高于所述导电底基背表面的温度。
11.根据权利要求10所述的电照相设备,其中所述热源包含一个陶瓷基底,和一个置于所述陶瓷基底上的产热烧结体。
12.根据权利要求10所述的电照相设备,其中所述感光元件表面的温度上升高于所述导电底基背表面的温度上升。
13.根据权利要求10所述的电照相设备,其中所述感光元件表面的温度上升高于所述感光元件表面附近的空气的温度上升。
14.根据权利要求6所述的电照相设备,其中在25-45℃温度下的所述感光元件的接收电位的温度依赖性的绝对值是0.5(%/℃)或更小。
15.根据权利要求14所述的电照相设备,还包含一个用于支持所述感光元件的导电底基,和一个置于所述感光元件表面附近的热源;并且其中所述热源用1—100(℃/sec)的温度梯度来加热所述感光元件,使所述感光元件表面的温度变成高于所述导电底基背表面的温度。
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