[发明专利]交联树脂包覆二氧化硅微粒及其制造方法无效

专利信息
申请号: 95190290.3 申请日: 1995-04-07
公开(公告)号: CN1082934C 公开(公告)日: 2002-04-17
发明(设计)人: 阪井和彦;足立龙彦;仲山典宏;藤野贤一 申请(专利权)人: 宇部日东化成株式会社
主分类号: C01B33/18 分类号: C01B33/18
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 邰红,杨丽琴
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 交联 树脂 二氧化硅 微粒 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种交联树脂包覆二氧化硅微粒,其特征在于,具有通过含乙烯基硅烷偶合剂,在焙烧二氧化硅微粒的表面上形成的单层结构或多层结构的交联树脂覆膜。

2.权利要求1中记载的交联树脂包覆二氧化硅微粒,平均粒径为0.6~17μm,且其粒度分布的离散系数在2%以下。

3.权利要求1中记载的交联树脂包覆二氧化硅微粒,其中,焙烧二氧化硅微粒是用烃氧基硅或其部分水解物进行表面处理的。

4.权利要求1中记载的交联树脂包覆二氧化硅微粒,其中,二氧化硅微粒的表面上形成的交联树脂覆膜是通过使单官能性乙烯基单体和多官能性乙烯基单体的混合物分散聚合来获得的。

5.权利要求1~4任一项中记载的交联树脂包覆二氧化硅微粒,其中,二氧化硅微粒表面上形成的交联树脂覆膜的厚度为0.05~1μm。

6.权利要求1~5中记载的交联树脂包覆二氧化硅微粒,其中,二氧化硅微粒表面上形成的交联树脂覆膜,对用于使一定量交联树脂包覆二氧化硅微粒分散于分散介质中的超声波振动处理具有耐久性。

7.一种交联树脂包覆二氧化硅微粒的制造方法,其特征在于,包括用含乙烯基硅烷偶合剂对焙烧二氧化硅微粒进行表面处理,以将乙烯基引入二氧化硅微粒表面的工序(A);以及在极性有机溶剂中,在分散稳定剂和自由基聚合引发剂的存在下,使含有单官能性乙烯基单体(M)与多官能性乙烯基单体(P)、P/M的投料摩尔比=0.5/99.5~70/30摩尔%的混合物进行分散聚合,在经表面处理了的二氧化硅微粒的表面上形成交联树脂覆膜的工序(B)。

8.权利要求7中记载的交联树脂包覆二氧化硅微粒的制造方法,其特征在于,在用含乙烯基硅烷偶合剂进行表面处理的同时和/或之前,使焙烧二氧化硅微粒与烃氧基硅或其部分水解物反应。

9.权利要求7中记载的交联树脂包覆二氧化硅微粒的制造方法,其中,焙烧二氧化硅微粒的平均粒径为0.5~15μm,且其离散系数在2%以下。

10.一种多层结构交联树脂包覆二氧化硅微粒的制造方法,其特征在于,工序(C)至少进行一次,工序(C)是将根据权利要求7-9任一项中所记载的方法制造的交联树脂包覆二氧化硅微粒,在分散稳定剂和自由基聚合引发剂的存在下,分散在极性有机溶剂中,使含有单官能性乙烯基单体(M)与多官能性乙烯基单体(P)、P/M的投料摩尔比=0.5/99.5~70/30摩尔%的混合物进行分散聚合,在交联树脂覆膜的表面上再次形成交联树脂覆膜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宇部日东化成株式会社,未经宇部日东化成株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/95190290.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top