[发明专利]用于在等离子电弧中制备粉末的方法及实施该方法的设备无效
申请号: | 95190857.X | 申请日: | 1995-09-07 |
公开(公告)号: | CN1135190A | 公开(公告)日: | 1996-11-06 |
发明(设计)人: | B·塞罗尔 | 申请(专利权)人: | W·C·赫罗伊斯有限公司 |
主分类号: | B01J19/08 | 分类号: | B01J19/08 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 程天正,萧掬昌 |
地址: | 联邦德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 等离子 电弧 制备 粉末 方法 实施 设备 | ||
1.一种通过至少两个反应组分在等离子电弧中的反应连续制备粉末的方法,其中,第一反应组分和第二反应组分被输往借助处于第一和第二电极之间的电压得以保持的等离子电弧,其中,至少第一反应组分是导电的并且被用作第一电极,其特征在于,第一反应组分(20)以流体的形式被输往等离子电弧(36)。
2.按照权利要求1所述的方法,其特征在于,第一反应组分(20)作为电极与负电位相连。
3.按照权利要求1或2所述的方法,其特征在于,等离子电弧(36)具有的能量相当于待制备的化合物的化合自由焓加上等离子电弧(36)中的热损耗。
4.按照以上权利要求之一所述的方法,其特征在于,等离子电弧(36)被保持在一个等离子室(28、30)内,该等离子室具有一个基本上为抛物线形状的内腔(30),该内腔具有一个为第一反应组分(20)而设的注入口(37)并具有一个与以上注入口(37)面对的通路(31)。
5.按照权利要求4所述的方法,其特征在于,至少处在一个射流(23)中的第一反应组分(20)被输往等离子室(28、30),其中,等离子室(28、30)的抛物线形内腔(30)的长轴同轴于射流(23)伸展,并且在注入口(37)范围内的等离子室内腔(30)的直径大于等离子电弧(36)中的平均电离距离,并且通道(31)的直径小于在等离子电弧(36)中的平均电离距离。
6.按照权利要求4或5所述的方法,其特征在于,等离子电弧(36)在抛物线的中心(F)之一上被触发。
7.按照权利要求4至6之一所述的方法,其特征在于,等离子室(28、30)的通路(27、31)借助一个混合管(27、35)向外被延长,在混合管的出口(33)处保持负压。
8.按照权利要求7所述的方法,其特征在于,借助一个与混合管(27、35)相接的超声嘴(34)使负压得到保持。
9.按照权利要求1至8之一所述的方法,其特征在于,第一反应组分以粉末的形式被输往等离子电弧,其中,借助载运气体的电离建立与一个维持电压的发生器的电气连接。
10.按照以上权利要求之一所述的方法,其特征在于,用锡和铟熔液(20)作为第一反应组分,用含有氧的气体作为第二反应组分。
11.一种用于通过至少一个第一反应组分和一个第二反应组分在等离子电弧中的反应连续制备粉末的设备,该设备具有一个用于至少把第一反应组分输往一个等离子室的注入口的输送装置,等离子室具有一个朝面对注入口的通路方向逐渐缩窄的内腔,该设备还具有至少两个与发生器相连的、用于保持等离子电弧的电极,其中,第一电极是通过第一反应组分构成的,其特征在于,输送装置包括一个用于容纳第一反应组分(20)的容器(21),该容器在其面对等离子室(28、30)的注入口(37)的下缘上具有一个出口(22)。
12.按照权利要求11所述的设备,其特征在于,等离子室(28)具有一个其截面基本上为抛物线形状的内腔(30)。
13.按照权利要求12所述的设备,其特征在于,注入口(37)和等离子室(28、30)的通路(31)之间的设想连线大致同轴于抛物线的长轴伸展,并且等离子室(28、30)的、在注入口(37)范围内的上部直径大于平均电离距离Li,并且通路(31)的直径小于平均电离距离Li。
14.按照权利要求11至13之一所述的设备,其特征在于,等离子室(28、30)的通路(31)借助一个混合管(27、35)向外延长,该混合管的内截面自等离子室(28、30)朝其出口(33)看呈锥形扩大。
15.按照权利要求14所述的设备,其特征在于,一个超声喷嘴(34)与混合管(27、35)相接。
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