[发明专利]金属镀膜电容器用锌沉积基材及其制造方法无效
申请号: | 95191020.5 | 申请日: | 1995-10-06 |
公开(公告)号: | CN1136852A | 公开(公告)日: | 1996-11-27 |
发明(设计)人: | 今井诚;高木寿幸;池田秀树;高桥康雄;村田守 | 申请(专利权)人: | 本州制纸株式会社 |
主分类号: | H01G4/015 | 分类号: | H01G4/015 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘元金,杨丽琴 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 镀膜 电容 器用 沉积 基材 及其 制造 方法 | ||
1.一种金属镀膜电容器用锌蒸气沉积基材,即一种在由薄膜或电容器用薄纸组成的基体的至少一面上有锌蒸气沉积层的金属镀膜电容器用锌蒸气沉积基材,其特征在于
在所述基体上形成了一个由硅、钛、锆的氧化物中至少一种组成的锌沉积用底层,在该锌沉积用底层上形成了所述锌蒸气沉积层,进而在该锌蒸气沉积层上形成了保护层。
2.权利要求1所述的金属镀膜电容器用锌蒸气沉积基材,其特征在于所述保护层由显示0.1mmHg蒸气压的温度在150~290℃范围内的物质组成,该物质的厚度在0.7~50nm范围内。
3.权利要求2所述的金属镀膜电容器用锌蒸气沉积基材,其特征在于形成所述保护层的物质是由硅基油类、氟基油类、烷基萘、聚二苯醚、脂肪酸类、脂肪酸盐类和石蜡中至少一种构成的。
4.权利要求1所述的金属镀膜电容器用锌蒸气沉积基材,其特征在于所述保护层是由硅、钛和锆的各氧化物中至少一种组成的氧化物层,且其厚度在1~30nm范围内。
5.金属镀膜电容器用锌蒸气沉积基材的制造方法,其特征在于在由薄膜或电容器用薄纸组成的基体的至少一面上,以硅、钛、锆及这些的氧化物中至少一种为蒸气沉积源形成一个由硅、钛和锆的氧化物中至少一种组成的锌沉积用底层,然后在所述锌沉积用底层上形成一个锌蒸气沉积层,进而在所述锌蒸气沉积层上形成保护层。
6.权利要求5所述的金属镀膜电容器用锌蒸气沉积基材的制造方法,其特征在于由显示0.1mmHg蒸气压的温度在150~290℃范围内的物质组成的保护层是以厚度在0.7~50nm范围用蒸气沉积法形成的。
7.权利要求5所述的金属镀膜电容器用锌蒸气沉积基材的制造方法,其特征在于以硅、钛、锆及这些的氧化物中至少一种作为蒸气沉积源,用蒸气沉积法形成厚度在1~30nm范围内的,由硅、钛及锆的氧化物中至少一种组成的保护层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于本州制纸株式会社,未经本州制纸株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/95191020.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:重组p53腺病毒方法和组合物
- 下一篇:ROM-RAM盘