[发明专利]层析X射线照相装置的模式化检测装置

权利要求书

1、与一X射线装置中的一X射线源一起使用的X射线检测组件的模式化装置，所述装置包括：

至少一个检测模件，所述检测模件包括一基准面和一个和多个相对固定在所述基准面上、用来检测所述X射线源发出的X射线的检测器；

至少一个防散射模件，所述防散射模件包括第二基准面和相对固定在所述第二基准面上、用来减少所述检测器接收到的散射X射线的部件；

可接到所述X射线装置上、用来支撑所述检测和防散射模件的底座件，它有一基准面并包括把所有所述模件以精确位置固定到所述底座件上的定位部件，从而所有模件的基准面与该底座件的基准面相互抵靠；当所述模件和底座件紧固到所述X射线装置上时，检测模件和防散射模件相对所述X射线源获得精确定位。

2、按权利要求1所述的装置，其特征在于，所述各基准面均为平面。

3、按权利要求1所述的装置，其特征在于，所述定位部件包括使所述两模件相对所述底座件获得定位的两根销。

4、按权利要求3所述的装置，其特征在于，所述两模件共有一销。

5、按权利要求3所述的装置，其特征在于，所述两模件各有一供一销紧紧插入的孔和一宽度小于其长度的槽，所述槽的长度与所述孔在一直线上，该槽的宽度做成可供所述另一销销紧紧插入，同时该槽的长度容许所述两销之间有一定偏差。

6、按权利要求5所述的装置，其特征在于，该防散射模件和所述检测模件共有一销。

7、按权利要求6所述的装置，其特征在于，所述共有销插入在所述防散射模件和检测模件的孔中。

8、按权利要1所述的装置，其特征在于，所述模件之一有一用来延伸其基准面的唇部，而另一个模件有一可容纳所述唇部的凹座，从而当所述两模件用所述定位部件固定到所述底座件上时，所述两模件的基准面共平面而抵靠所述底座件的基准面。

9、按权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置包括许多检测模件和许多防散射模件。

10、按权利要求9所述的装置，其特征在于，所述定位部件包括两根使所述两模件相对所述底座件定位的销；所述检测模件中的两个分别共有用来支撑一对应的所述防散射模件的两根销。

11、按权利要求10所述的装置，其特征在于，进一步包括把所述底座件固定到所述X射线装置上的安装部件。

12、按权利要求11所述的装置，其特征在于，所述安装部件包括调节所述底座件相对于所述X射线源的位置的部件。

13、层析照相装置转盘上与一X射线源相对的X射线检测组件的模式化装置，所述装置包括：

(A)一梁，该梁有一基准平面和许多与所述基准面垂直的基准孔；

(B)许多安装到所述梁上的防散射模件，每一个防散射模件包括：

(a)界定与所述梁的基准面接靠的基准面的部件；

(b)一与所述防散射模件的基准面垂直的基准孔；

(c)一与所述防散射模件的基准面垂直、其长度方向与所述基准圆孔位于一直线上的基准槽；以及

(d)许多相对所述防散射模件的基准孔、基准槽和基准面精确定位、定向的防散射板；

(C)许多可装到所述梁上的检测模件，每一检测模件包括：

(a)界定一与所述梁的基准面接靠的基准平面的部件；    

(b)一与所述检测模件的基准面垂直的基准孔；

(c)一与所述检测模件的基准面垂直的槽，所述槽的长度方向与所述检测模件的基准圆孔在一直线上；以及

(d)许多相对所述检测模件的基准孔、基准槽和基准面精确定位、定向的X射线检测器；以及

(D)把所述梁安装到所述层析照相装置上的梁的安装部件；

(E)许多暗销；

(F)所述防散射和检测模件在所述梁的基准面上的位置决定于插入在其基准圆孔以及梁的基准孔的所述暗销之一；

(G)所述防散射和检测模件的校直决定于插入在其基准槽和梁的基准孔中的所述暗销之一。

14、按权利要求13所述的装置，其特征在于，所述防散射模件和第一检测模件的位置决定于同一暗销和梁的基准孔。