[发明专利]具有涂碳的高能表面的保护膜

权利要求书

1.一种具有保护特性的聚合物薄膜，该薄膜含有非晶形尼龙层，在该非晶形尼龙层的外露的高能表面上沉积碳层，该碳层的沉积较好的是在等离子体的存在下，通过可分解的前体的汽相淀积而进行的。

2.如权利要求1所述的聚合物薄膜，其特征在于该尼龙层是粘附于聚合物基材或是与聚合物基材共挤塑的。

3.一种制备具有保护特性的聚合物薄膜的方法，该方法包括在等离子体的存在下通过可分解的前体的汽相淀积将碳层沉积在非晶形尼龙层的外露的高能表面。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于该沉积是在双频率的条件下完成的。

5.如权利要求3或4所述的方法，其特征在于该沉积步骤包括将主要的射电频率施加于位于反应室的第一电极以产生等离子体以及将90kHz至450kHz的次要频率施加于位于该反应室的第二电极以促进碳层沉积在外露的高能表面。

6.如权利要求3、4或5所述的方法，其特征在于该第二电极包括基材支撑片，将非晶形尼龙层置于该基材支撑片上以接收碳层沉积在外露的高能表面上。

7.如前面的权利要求中任何一项所述的方法，其特征在于可分解的前体包括含有1至20个碳原子的烃类。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于该烃类包括乙炔。

9.使用非晶形尼龙层，在该层龙层的外露的高能沉积碳涂覆层，以提高制备具有保护特性且包括较好地在等离子体的存在下，通过可分解的前体的汽相淀积而沉积的碳层的聚合物薄膜的生产速度。