[发明专利]光隔离器用光学元件组件的制造方法无效
申请号: | 95192601.2 | 申请日: | 1995-12-27 |
公开(公告)号: | CN1146245A | 公开(公告)日: | 1997-03-26 |
发明(设计)人: | 大泽隆二 | 申请(专利权)人: | 株式会社东金 |
主分类号: | G02B27/28 | 分类号: | G02B27/28 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 姜郛厚,叶恺东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 隔离 器用 光学 元件 组件 制造 方法 | ||
1.一种光隔离器用光学元件组件的制造方法,即由至少将偏光镜、法拉第旋光镜及偏光镜这3个光学元件在一光轴配置成的光隔离器用光学元件组件的制造方法,其特征在于包括下述工序:准备可切出多个上述偏光镜的偏光镜材料板、可切出多个上述法拉第旋光镜的法拉第旋光镜材料板、及可切出多个上述偏光镜的偏光镜材料板等至少3种光学材料板,在上述偏光镜材料板上与上述法拉第旋光镜材料板相对的光学面上、在上述法拉第旋光镜材料板上与上述偏光镜材料板及偏光镜材料板相对的光学面、以及在上述偏光镜材料板上与上述法拉第旋光镜材料板相对的光学面的各光学面中,在应成为透光用的孔隙的区域以外的部分形成金属镀膜的金属镀膜形成工序;在该金属镀膜形成工序之后,将上述各光学材料板重叠,使上述偏光镜材料板的偏振光方向相对于上述偏光镜材料板的偏振光方向实际倾斜45°,利用在上述各光学面上形成的金属镀膜部分,将上述各光学材料板互相焊接起来的焊接工序;以及在该焊接工序之后,将上述各光学材料板切断,切出多个上述光学元件组件的切断工序。
2.根据权利要求1所述的光隔离器用光学元件组件的制造方法,其特征在于:在上述焊接工序之前,增加一道槽形成工序,即在与上述法拉第旋光镜材料板相对的光学面和与上述偏光镜材料板相对的光学面内,至少在一个的光学面上形成以上述光学元件组件为单位切割上述各光学材料板用的第1槽,再在与上述偏光镜材料板相对的光学面和与上述法拉第旋光镜材料板相对的光学面内,至少在一个的光学面上形成与上述第1槽相同图形的第2槽,在上述切断工序中,在上述第1及第2槽部分处切断上述各光学材料板。
3.根据权利要求2所述的光隔离器用光学元件组件的制造方法,其特征在于:在上述槽形成工序之后,执行上述金属镀膜形成工序,在该金属镀膜形成工序中,在构成上述第1及第2槽的壁面上也形成上述金属镀膜,在上述切断工序中,在上述第1及第2槽部分的中央部分切断,以便使有形成了上述金属镀膜的壁面的部分在上述各光学元件的侧面作为台阶部留下。
4.一种光隔离器用光学元件组件,即偏光镜、法拉第旋光镜及偏光镜至少这3个光学元件排列配置在一条光轴上,通过在上述各光学元件各自的光学面上的孔隙周边形成的金属镀膜焊接起来,该光隔离器用光学元件组件的特征在于:在上述各光学元件的侧面形成台阶部,在该台阶部上形成金属镀膜,通过在该台阶部上形成的金属镀膜焊接到永久磁铁的电镀部。
5.根据权利要求1或2所述的光隔离器用光学元件组件的制造方法,其特征在于:在上述焊接工序中,重叠上述各光学材料板,使通过用上述金属镀膜规定范围的上述各光学材料板上的孔隙的同一处的光轴相对于与上述光学面正交的直线呈倾斜状态,在此状态下,用上述金属镀膜的部分焊接上述各光学材料板,在上述切断工序中,沿上述光轴切断上述各光学材料板。
6.一种光隔离器用光学元件组件,即偏光镜、法拉第旋光镜及偏光镜至少3个光学元件整齐地排列配置在一条光轴上,通过在上述各光学元件各自的光学面上的孔隙周边形成的金属镀膜焊接起来,该光隔离器用光学元件组件的特征在于:与上述各光学元件的光学面正交的直线相对于通过上述各孔隙的同一处的光轴呈倾斜状态,上述各光学元件的侧面排列在同一平面上,且与上述光轴平行。
7.根据权利要求1或2所述的光隔离器用光学元件组件的制造方法,其特征在于:在上述焊接工序之后,执行在上述各光学材料板的光学面上涂敷具有疏水性的表面改质剂的表面改质工序,在该表面改质工序之后进行上述切断工序。
8.根据权利要求7所述的光隔离器用光学元件组件的制造方法,其特征在于:在上述表面改质工序中使用的表面改质剂是硅烷系列耦联剂。
9.根据权利要求7所述的光隔离器用光学元件组件的制造方法,其特征在于:在上述表面改质工序中使用的表面改质剂是氟代烷基硅烷。
10.根据权利要求1或2所述的光隔离器用光学元件组件的制造方法,其特征在于:在上述金属镀膜形成工序中,形成上述金属镀膜,使利用该金属镀膜将用上述金属镀膜规定范围的上述孔隙完全包围。
11.根据权利要求10所述的光隔离器用光学元件组件的制造方法,其特征在于:在上述金属镀膜形成工序中,为了形成上述金属镀膜,使用的金属掩模有覆盖应形成为上述孔隙的区域的掩模部和使该掩模部彼此连接的桥部,而且,上述掩模部覆盖应形成上述孔隙的区域时,上述桥部离开上述光学面。
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