[发明专利]正性光敏组合物

权利要求书

1.一种正性光致抗蚀剂组合物，包括下列组分的混合物：

a)一种光敏剂，包括一种有下列结构作为骨架的重氮酯：

X＝Cl，Br，I，OH，OR，COOR，COOAr(OH)_n，COAr(OH)_n，COR，R，Ar(OH)_nR＝C₁-C₈烷基，n＝0到5，Ar＝苯基

其中重氮酯是一种在苯环上的羟基中至少有一个已经用一种包括60到100摩尔％2，1，4-或2，1，5-重氮磺酰氯或是它们的混合物的重氮磺酰氯酯化的化合物，在光致抗蚀剂组合物中光敏剂的含量为无溶剂组合物的1到35重量％；

b)一种非水溶性但可溶于碱性水溶液的线型酚醛树脂，在光致抗蚀剂组合物中线型酚醛树脂的含量为无溶剂组合物量的65到99重量％；和

c)一种溶剂，所述溶剂的用量至多为组合物中无溶剂的固体重量的95％。

2.按权利要求1的组合物，其中所述溶剂包括丙二醇单甲基醚乙酸酯。

3.按权利要求1的组合物，其中所述溶剂包括3-乙氧基丙酸乙酯。

4.按权利要求1的组合物，还进一步包括从着色剂、均化剂、抗条纹剂、增塑剂、增粘剂、速度增强剂和表面活性剂中选择的一种或多种添加剂。

5.一种光敏元件，包括一个基材和涂布在该基材上的干燥的权利要求1组合物。

6.按权利要求5的元件，其中所述的基材选自硅、铝、聚合物树脂、二氧化硅、掺杂型二氧化硅、砷化镓、III/V族化合物、四氮化三硅、钽、铜、多晶硅、陶瓷和铝/铜混合物。

7.按权利要求5的元件，其中所述基材有一增粘表面。

8.按权利要求5的元件，其中的组合物还进一步包括从非芳香族着色剂、染色剂、抗条纹剂、均化剂、增塑剂、增粘剂、速度增强剂和表面活性剂中选择的一种或多种组分。

9.一种在基材上产生光致抗蚀剂影像的方法，包括用一个正过程光敏剂组合物涂布一个基材，该组合物包括下述组分：

a)一种光敏剂，包括一种有下列结构作为骨架的重氮酯：

X＝Cl，Br，I，OH，OR，COOR，COOAr(OH)_n，COAr(OH)_n，COR，R，Ar(OH)_nR＝C₁-C₈烷基，n＝0到5，Ar＝苯基

其中重氮酯是一种在苯环上的羟基中至少有一个已经用一种包括60到100摩尔％2，1，4-或2，1，5-重氮磺酰氯或是它们的混合物的重氮磺酰氯酯化的化合物，在光致抗蚀剂组合物中光敏剂的含量为无溶剂组合物量的1-35重量％；

b)一种非水溶性但可溶于碱性水溶液的线型酚醛树脂，在光致抗蚀剂组合物中线型酚醛树脂的含量为无溶剂组合物量的65～99重量％，和

c)一种溶剂组分，所述溶剂组分至多为无溶剂组合物量的95重量％；将涂布后的该基材进行热处理直到基本上脱除所述溶剂组分；按影像图形对光致抗蚀剂组合物光照曝光；并且用一种碱性显影剂水溶液脱除按影像图形曝光区域的该组合物。

10.按权利要求9的方法，还进一步包括在曝光步骤后但在脱除步骤前将所述的涂布后基材于从90℃到150℃下在加热板上加热30秒到180秒，或者在一个烘箱内加热15分钟到40分钟。

11.按权利要求9的方法，还进一步包括在脱除步骤后将所述的涂布后基材于从90℃到150℃下在加热板上加热30秒到180秒，或者在一个烘箱内加热15分钟到40分钟。

12.按权利要求9的方法，其中所述基材包括一种或多种选自硅、铝、聚合物树脂、二氧化硅、掺杂型二氧化硅、砷化镓、III/V族化合物、四氮化三硅、钽、铜、多晶硅、陶瓷和铝/铜混合物。

13.按权利要求9的方法，其中用光源、X-射线或离子束照射实施曝光步骤。

14.按权利要求9的方法，其中用波长约为365nm的紫外光辐照实施所述的曝光步骤。

15.按权利要求9的方法，其中用氢氧化钠、氢氧化钾或四甲基氢氧化铵实施显影步骤。