[发明专利]探测光纤光腔涂层去除的传感器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 95196508.5 申请日: 1995-11-22
公开(公告)号: CN1082659C 公开(公告)日: 2002-04-10
发明(设计)人: 詹姆斯·R·邓菲;詹姆斯·J·瑞安 申请(专利权)人: 联合技术公司
主分类号: G01D5/353 分类号: G01D5/353;G01M11/08;G01N17/00;G01N21/41
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 邵伟
地址: 美国康*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 探测 光纤 涂层 去除 传感器 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1、一种探测光纤光腔涂层去除的传感器,其特征在于包括:

一种构成光腔的光纤;

一对嵌入到所述光纤内的反射光纤光栅,每一光栅均具有中央反射波长,所述光栅确定了所述光腔的界限;

所述光腔的光路长度和传播损失与所述光纤光栅的中央反射波长一起设定,以形成光谐振器;

一层具有预定厚度的材料涂层,它包围光腔的圆周并沿所述光腔的至少一部分长度方向延伸;

所述涂层向所述光腔施加沿径向向内的力,导致所述光腔的整体折射率变化,从而使所述光腔的光路长度改变并引起谐振器脱离谐振状态;

当所述涂层至少被部分去除时,所述光腔上的作用力减小,从而使谐振器进入谐振状态。

2、如权利要求1的光学传感器,其特征在于,所述的光纤包括纤芯和包围该纤芯的包层。

3、如权利要求1的光学传感器,其特征在于,所述光腔包括增益介质,从而形成激光光腔。

4、如权利要求1的传感器,其特征在于,来自所述涂层的所述力沿着所述光腔不均匀地分布于所述光腔周围,使得光腔的折射率变化,从而减小了所述光腔的光学效率。

5、如权利要求1的传感器,其特征在于,所述涂层包括铝。

6、如权利要求1的传感器,其特征在于,对所述涂层的去除包括腐蚀所述涂层。

7、一种制造用于探测光纤光腔涂层去除的传感器的方法,其特征在于包括:

获得一种构成光腔的光纤,该光腔具有一对嵌入到所述光纤内的反射光纤光栅,每一光栅均具有中央反射波长,所述光栅确定了所述光腔的界限;

与所述光纤光栅的中央反射波长一起设定所述光腔的光路长度和传播损失,以形成光谐振器;

围绕所述光腔的圆周并沿所述光腔的至少一部分长度方向对所述光腔施加涂层;

所述涂层向所述光腔施加沿径向向内的力,导致所述光腔的整体折射率变化,从而使所述光腔的光路长度改变并引起谐振器脱离谐振状态;

当所述涂层至少被部分去除时,所述光腔上的作用力减小,从而使谐振器进入谐振状态。

8、如权利要求7的方法,其特征在于,所述涂层包括铝。

9、如权利要求7的方法,其特征在于,所述的施加所述涂层的步骤包括蒸镀。

10、如权利要求7的方法,其特征在于,所述的施加所述涂层的步骤包括冷冻涂覆。

11、如权利要求7的方法,其特征在于,对所述涂层的去除包括腐蚀所述涂层。

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