[发明专利]用于温敏基底的防反射涂层

权利要求书

1.一种涂层制品，它包括：

一种熔点比玻璃低的温敏基底；

一种包括对可见光基本透明的多层防反射涂层，至少一层所述的层是折射率比所述基底高的直流反应溅射材料。它选自氧化锡、氧化铟、氧化锌、掺锡的氧化铟、掺锑的氧化锡、锡-铋氧化物和锡-锌氧化物，并且至少另一层的折射率比所述基底低。

2.权利要求1的制品，其中所述的基底是塑料。

3.权利要求1的制品，其中所述的另一层基本是二氧化硅。

4.权利要求3的制品，其中所述的直流反应溅射材料是氧化锡。

5.权利要求3的制品，其中所述的直流反应溅射材料是掺锡的氧化铟。

6.权利要求1的制品，其中所述的直流反应溅射材料的折射率为1.9～2.2。

7.权利要求1的制品，其中所述的多层为4层，其顺序号以距基底最远的那层开始，称为第一、第二、第三和第四层；

所述第一层的折射率比所述的基底低，在波长480～560nm下光学厚度为约1/4波长；

所述的第二层的折射率比所述的基底高，在波长480～560nm下光学厚度为约1/4～1/3波长；

所述的第三层的折射率比所述的第二层低；

所述的第四层的折射率比所述的第三层大；

所述的第三和第四层的总光学厚度在波长480～560nm下比1/4波长低；和

所述的第二、第四层的至少一层是所选择的溅射材料。

8.用于基底的防反射涂层，它包括：

对可见光基本透明的四层涂层，其顺序号以距基底最远的那层开始，称为第一、第二、第三和第四层；

所述第一层的折射率比所述的基底低，在波长480～560nm下光学厚度为约1/4波长；

所述的第二层的折射率比所述的基底高，在波长480～560nm下光学厚度为约1/4～1/3波长；

所述的第三层的折射率比所述的第二层低；所述的第四层的折射率比所述的第三层大；

所述的第三和第四层的总光学厚度在波长480～560nm下比1/4波长低；和

所述的第二、第四层的至少一层是选自氧化锡、氧化铟、氧化锌、掺锡的氧化铟、掺锑的氧化锡、锡-铋氧化物和锡-锌氧化物的直流反应溅射材料。

9.权利要求8的涂层，其中所述第二和第四层两者均是直流反应溅射材料，它们选自氧化锡、氧化铟、氧化锌、掺锡的氧化铟、掺锑的氧化锡、锡-铋氧化物和锡-锌氧化物。

10.权利要求9的涂层，其中所述的第一和第三层基本由二氧化硅组成。

11.权利要求10的涂层，其中所述的第二和第四层的所述的直流反应溅射材料是氧化锡。

12.权利要求11的涂层，其中所述的第一层的物理厚度为约94.2纳米，所述的第二层的物理厚度为约76.4纳米，所述的第三层的物理厚度为约31.9纳米，所述的第四层的物理厚度为约20.3纳米。

13.权利要求11的涂层，其中所述的第一层的物理厚度为约92.2纳米，所述的第二层的物理厚度为约78.1纳米，所述的第三层的物理厚度为约32.2纳米，所述的第四层的物理厚度为约18.6纳米。

14.一种制造涂层制品的方法，它包括如下步骤：

提供一种熔点比玻璃低的温敏表面；和

将包括对可见光基本透明的多层的防反射涂层，沉积在所述表面上，所述的沉积步骤包括：

直流反应溅射选自氧化锡、氧化铟、氧化锌、掺锡的氧化铟、掺锑的氧化锡、锡-铋氧化物和锡-锌氧化物的材料，和

至少沉积另一层，其折射率不同于所述的直流反应溅射材料。