[发明专利]磁记录媒体及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及磁记录媒体及其制造方法。具体来说，本发明涉及下述的高密度磁记录媒体及其制造方法，该磁记录媒体具有高的矫顽力和标准矫顽力，并且具有良好的S/N比值。本发明的磁记录媒体特别适合用于硬磁盘，软磁盘和磁带等。

背景技术

业已知道，已有的磁记录媒体及其制造方法包括下面的技术。

图10为作为磁记录媒体的一个实例的硬磁盘的示意图。在图10中，图10(a)为磁记录媒体的整体斜视图，图10(b)的沿图10(a)中为A-A’线的局部剖面图。

作为基体1，使用Al基板2的表面上设置非磁性(Ni-P)层3的基体。之后，在该基体1上依次层叠Cr衬层4，强磁性金属层5以及保护层6。

通过电镀法或溅射法在下述Al基板2表面上形成非磁性(Ni-P)层3，从而形成基体1，该Al基板2为圆盘形，其直径为89mm(3.5英寸)，其厚度为1.27mm(50密耳)。另外，通过机械研磨处理，在非磁性(Ni-P)层3表面上形成呈同心圆形的痕迹(后面称为纹理)。一般来说，非磁性(Ni-P)层3的表面粗糙度，即沿半径方向测定时的平均中心线粗糙度Ra为5nm～15nm。此外，Cr衬层4和强磁性金属层5(一般为Co合金系磁性膜)通过溅射法形成于上述基体1的表面上，最后通过溅射法形成碳等构成的保护层6，对强磁性金属层5的表面进行保护。典型的每个层的厚度为下述值，即非磁性(Ni-P)层3：5μm～15μm，Cr衬层4：50nm～150nm，强磁性金属层5：30nm～100nm，保护层6：20nm～50nm。

具有上述层结构的已有的磁记录媒体是在下述的条件下制造的，该条件为：溅射成膜之前的成膜室所达到的真空度为10^-7乇，，并且成膜时所采用的Al气体中的杂质浓度在1ppm以上。

在按照上述制造方法得到的磁记录媒体中，特别是在含有Ta元素的强磁性金属层5(比如，CoCrTa合金磁性膜)的场合，在形成强磁性金属层的晶粒之间存在有非晶形结构形成的晶界层，以及该晶界层由非磁性合金组成构成，这些是由中井等人报导的(J.Nakai，E.Kusumoto，M.Kuwabara，T.Miyamoto，M.R.Visokay，K.Yoshikawa and K.Itayama，“Relation BetweenMicrostructure of Grain Boundary and the Intergranular Exchange in CoCrTa ThinFilm for Longitudinal Recording Media”，IEEE Trans.Magn.，vol.30，No.6，pp.3969，1994)。

但是，在不含有Ta元素的强磁性金属层(比如，CoNiCr或CoCrPt合金磁性膜)的场合，未看到具有上述的晶界层。

另外，上述文献还指出在强磁性金属层含有Ta元素的场合，磁记录媒体的标准矫顽力(表示为Hc/Hk^grain)具有大于0.3的值，与此相对，在不含有Ta的场合，则上述矫顽力小于0.3。

此外，国际专利申请PCT/JP94/01184号公报中公开了下述的技术，该技术涉及一种廉价的高密度磁记录媒体及其制造方法，该磁记录媒体在不采用高价的强磁性金属层的情况下，具有高的矫顽力，在通过金属衬层在基体表面上形成强磁性金属层、利用磁通反转的磁记录媒体中，通过使成膜时所使用的Ar气体中的杂质浓度保持在10ppb以下，使金属衬层或/和强磁性金属层的氧浓度在100ppm(重量)以下。另外，上述文献还指出，由于在形成上述金属衬层之前，使用其杂质浓度在10ppb以下的Ar气体，通过高频溅射法对上述基体表面进行清洁处理，使上述基体表面去除0.2nm～1nm，这样可进一步增加矫顽力。上述文献还指出，磁记录媒体的标准矫顽力与媒体噪音之间具有相关性，为了获得噪音较低的媒体，应将标准矫顽力设定在0.3以上、0.5以下。

磁记录媒体的标准矫顽力(表示为Hc/Hk^grain)指矫顽力Hc与晶粒的各向异性磁场Hk^grain的比值，表示晶粒隔磁性的提高程度。即，强磁性金属层的标准矫顽力高，意味着构成强磁性金属层的每个晶粒的磁性相互作用降低，从而可获得高的矫顽力。