[发明专利]使用有机模板剂和胺制备沸石

权利要求书

1.一种制备选自大孔沸石、有一维通道的中孔沸石以及小孔沸石的沸石的方法，所述的方法包括：A.制成含有以下组分的含水反应混合物：(1)选自氧化硅、氧化锗及其混合物的氧化物源；(2)选自氧化铝、氧化镓、氧化铁、氧化硼、氧化钛及其混合物的氧化物源；(3)碱金属氧化物源；(4)包含至少一种有1-8个碳原子的胺、氢氧化铵及其混合物的胺组分；以及(5)能在所述的胺存在下生成所述沸石的有机模板剂化合物，其中所述的胺比所述的有机模板剂化合物小；以及B.将所述的含水反应混合物维持在充分的晶化条件下，一直到晶体生成。

2.根据权利要求1的方法，其中大孔沸石有一维通道。

3.根据权利要求1的方法，其中大孔沸石有多维通道。

4.根据权利要求1的方法，其中所述的有机模板剂化合物选自季铵离子、环状胺类和极性的金刚烷基衍生物。

5.根据权利要求1的方法，其中胺组分包括脂族的、环脂族的或杂环的胺、氢氧化铵或其混合物。

6.根据权利要求5的方法，其中胺组分包括选自异丁胺、甲胺、氢氧化铵、丁胺、叔丁胺、二丙胺、异丙胺、环戊胺、哌啶、4-甲基哌啶、环己胺和1，1，3，3-四甲基丁胺。

7.根据权利要求1的方法，其中所述的含水混合物还含有足够数量的晶种材料。

8.根据权利要求1的方法，其中反应混合物有如下摩尔比：

M/YO₂                 0.01-0.50

OH^-/YO₂              0.01-0.60

H₂O/YO₂              10-120

Q/YO₂                 0.02-1.00

YO₂/W₂O₃            10-200

Z/YO₂               0.05-1.00其中，M为碱金属；Y为硅、锗或硅和锗；Q为有机模板剂化合物；Z为胺组分；W为铝、镓、铁、硼、钛或其混合物。

9.根据权利要求8的方法，其中反应混合物有以下摩尔比：

M/YO₂              0.10-0.20

OH^-/YO₂           0.10-0.30

H₂O/YO₂           20-50

Q/YO₂              0.02-0.10

YO₂/W₂O₃         15-120

Z/YO₂              0.20-0.40。

10.根据权利要求4的方法，其中沸石焙烧后有表2的X射线衍射图。

11.根据权利要求10的方法，其中有机模板剂化合物包括金刚烷胺。

12.根据权利要求11的方法，其中所述的金刚烷胺包括选自1-金刚烷胺或2-金刚烷胺中的至少一种金刚烷胺。

13.根据权利要求11的方法，其中胺组分包括异丁胺、4-甲基哌啶、环戊胺或哌啶。

14.根据权利要求11的方法，其中有机模板剂化合物为金刚烷醇。

15.根据权利要求14的方法，其中所述的金刚烷醇包括选自1-金刚烷醇和2-金刚烷醇中的至少一种金刚烷醇。

16.根据权利要求14的方法，其中胺组分有哌啶或异丁胺。

17.根据权利要求4的方法，其中合成的沸石有表A的X射线衍射图。

18.根据权利要求17的方法，其中有机模板剂化合物包含N，N，N-三烷基-1，1，3，3-四烷基丁基铵阳离子。