[发明专利]磁盘及磁录放装置

说明书

本发明涉及磁盘和磁录放装置，更具体地说，涉及以高录制密度为特征的磁盘和磁录放装置。

背景技术

硬质型磁录放装置现正追随减小磁盘直径、减少录放装置的尺寸和重量、增大录制密度的趋向。磁盘的录制密度变得愈大，磁盘与磁头之间的距离(或浮动间隙)就会变得愈小。可以预期，在最近的将来，录放将在磁头与磁盘完全接触的状态下实现。那时，磁盘将会承受严格得多的滑动条件。另一方面，增大录制密度要求更小的浮动间隙和更光滑的磁盘表面(对稳定浮动而言)。其后果是，磁头滑动器(支托着磁头)在磁盘上滑动(保持与之接触)的时间较以前为长(以下将这种状态下的滑动称之为接触滑动)，在启动时磁盘会承受较以前为大的动摩擦和磨耗，并在磁头和磁盘之间产生出极限静摩擦(以下称为静摩擦力)。由于接触滑动引起的动摩擦力增大的结果是偶尔会发生磁盘破碎和磁头磨损，这时就不能录放。更有甚者，很大的静摩擦会使磁盘不能启动并使磁盘头损坏。

为了解决上述问题，已经开发出了一种具有两个分开的区域的新型磁盘，其中一个区域是当磁盘静止时停放磁头滑动器的，当磁盘开停时，它又经受接触开机和接触停机；其中另一个区域是当磁盘转动时由磁头实现录放的。(前一区域称为接触开停(CSS)区，后一区域称为信息区。)通常把CSS区做在磁盘的内圈，并把它的表面弄粗糙，以防止静摩擦。与此相反，信息区的表面则被弄平滑，以确保磁头的平稳浮动。具有CSS区和信息区的磁盘需要有特殊的润滑膜和润滑技术工艺。例如日本专利公开No．36277／1994就公开了一种防止静摩擦的方法，它是借助于在CSS区内滑动器轨面上做成突起部(约5nm高)的办法来实现的。另外，日本专利公开No．111292／1994还公开了在CSS区使用液态润滑剂和在信息区使用固态润滑剂的方法。这些现有技术工艺涉及做成CSS区和信息区的磁盘上所采用的润滑膜，而润滑膜则在某种程度上可实现对CSS区和信息区所要求的滑动特性。CSS区的润滑膜与信息区的润滑膜之间在要求上有明显的区别，这是因为在这两个区域中磁头-磁盘滑动的状态是不相同的。在CSS区，借助于把磁盘表面弄粗糙有可能稍微减小静摩擦，但由于磁盘启动和停止时会发生接触滑动，因此需有非常耐久的润滑膜。而在信息区，磁盘的表面必须是粗糙度很小，而且润滑膜的静摩擦应当很低。其理由是当磁头滑动器位于信息区而磁盘突然停止时(由于某种意外情况)，磁头滑动器可能会与信息区接触(引起强烈的静摩擦)。因此CSS区润滑膜在润滑性能上必须与信息区的润滑膜相区别。

现在磁盘使用的润滑剂是含有能吸附到磁盘表面上去的官能团的全氟聚醚化合物。这种润滑剂导致形成一层润滑膜，该膜系由牢固地吸附到磁盘表面的膜层和吸附得很弱或不吸附到磁盘表面的膜层构成。牢固吸附的润滑层当磁盘被用全氟化碳溶剂冲洗时是不会从磁盘上分离开的。但另一方面，吸附得很弱的润滑层却可用冲洗的办法很容易地从磁盘上分离开来。但是，该吸附得很弱的润滑层在需要有良好耐久性的CSS区起着重要的作用，因为为了建立起稳定的摩擦状态，在滑动时需要有一部分润滑剂转移到磁头滑动器的滑动面上去。在CSS区如果没有这层吸附得很弱的润滑层，就不可能保持满意的可靠性。与此相反，信息区却要求很低的静摩擦，因为在意外突停中磁头与信息区接触时必须避免润滑剂粘着在磁头与磁盘的间隙中，同时还必须避免磁头在搜索时过分擦伤润滑剂。因此，易于在磁盘表面移动的弱吸附层就对静摩擦起反作用，不利于耐久性。基于这一理由，弱吸附层必须尽可能地小。如果在磁盘的整个表面上使用普通吸附型的润滑剂，而单独把信息区进行冲洗以除去弱吸附层，则随之而来的必定是信息区的润滑膜厚度减小。现在，在信息区发生接触滑动的机会要远小于CSS区；但是，在磁头浮动间隙更减小的将来的磁盘装置上，即使在信息区也会有更多的机会在磁头与磁盘之间发生接触滑动。因此，不久的将来，就会要求信息区具有很好的耐久性。这意味着，信息区的润滑膜必须有足够的厚度，以承受偶尔发生的接触滑动。